石英晶体微天平在hl-2a装置上的应用-核聚变与等离子体物理.pdfVIP

第 37 卷 第 2 期 核 聚 变 与 等 离 子 体 物 理 Vol.37, No.2 2 0 1 7 年 6 月 Nuclear Fusion and Plasma Physics June 2017 文章编号：0254−6086(2017)02−0144−08 DOI: 10.16568/j.0254-6086.201702004 石英晶体微天平在 HL-2A 装置上的应用 曾晓晓，才来中，吴 婷 (核工业西南物理研究院，成都 610041) 摘 要：在 HL-2A 装置上采用石英晶体微天平(QCM)测量碳元素及其化合物的沉积质量，从测量的数据可知， 每次等离子体放电后 QCM 的沉积量都会有细微变化，每次放电测得的沉积质量约为 0.1~10μg 。沉积量的变化与 沉积物质再腐蚀或者溅射有关。根据一天的测量结果，可以计算得出 HL-2A 装置偏滤器区域平均每次放电(非 H 模放电)的沉积厚度约为 10nm。 关键词：石英晶体微天平；沉积；HL-2A 装置；偏滤器；等离子体与材料的相互作用 中图分类号：TL65+9 文献标识码：A 1 引言 背后，而这位置恰恰是沉积容易累积的地方。石英 在 HL-2A 装置中，等离子体与器壁的相互作 晶体微天平(QCM)可以对这些难以接触到的位置 用(包括在等离子体辐照下的器壁吸放气和腐蚀等 进行监测，而且 QCM 测量具有较高的沉积质量分 物理过程)都会产生杂质，这些杂质最终会被偏滤器 辨率和实时监测的能力。使用 QCM 系统能够了解 抽出或者沉积在偏滤器区域和第一壁表面。沉积层 托卡马克内部物质的沉积情况以及等离子体芯部 随着托卡马克中放电次数的增加而不断累积，而沉 的污染和杂质输运过程；从而对比不同的放电参数 积层会导致材料的热导率的降低以及表面形貌发 对沉积量的影响，进而优化放电参数提高等离子体 生变化，使得面向等离子体表面材料的结构变得更 品质和约束性能[3~5]。石墨为 HL-2A 装置中限制器 加疏松，而疏松的结构又使得材料在等离子体的辐 和偏滤器靶板的主要材料之一，因此 HL-2A 装置 照中更容易被腐蚀[1] 。在托卡马克真空室中随着放 的 QCM 沉积测量系统测量的主要沉积物质是碳及 电参数的改变，沉积在第一壁表面的沉积物质可能 其化合物。 再次会成为真空室中的杂质，从而导致腐蚀、沉积、 再腐蚀、再沉积的反复循环。而杂质会稀释等离子 2 QCM 标定实验与参数研究 体的燃料离子密度，降低聚变反应堆的功率密度； 2.1 QCM 工作原理 杂质过多，也会导致等离子体污染、辐射增强或者 QCM 是基于石英晶体的压电效应来对其晶体 破裂，降低等离子体品质，减弱等离子体的约束性 表面质量变化进行测量的仪器[5] 。若在石英晶片上 能。因此托卡马克中沉积问题与等离子体的品质和 施加机械压力，则晶片相应的方向上产生一定的电 [2] 场，与此同时，若在石英晶片上加上电位差，则会 约束性能息息相关 。 在 HL-2A 装置真空室内部，很多位置的测量 引起石英表面机械片以特定的频率振动。当晶体表 是用普通的检测手段难以达到的，比如偏滤器靶板 面沉积微量物质，则石英晶体片的振动的特征频率