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2017-08-31 发布于上海
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硅基光电子学中的soi材料 soi materials in silicon-based optoelectronics

第4l卷第9期激光与红外 V01．41．No．9 2011年9月 IASER＆ INFRARED 1 September，201 文章编号：1001-5078(2011)09-0943-05 ·综述与评论· 硅基光电子学中的S01材料陈媛媛 (北京工商大学计算机与信息工程学院，北京100048) 摘要：SOI材料是近年来应用于硅基光电子学中的一种重要的光波导材料。本文首先简要介绍了常见的SOI材料的制备方法，包括注氧隔离(SIMOX-SOI)、硅键合背面腐蚀(BE—SOI) 和注氢智能剥离(SmartCut)等，并比较了它们各自的特点和优劣。其次介绍了S01材料加工制造波导的基本工艺，包括光刻和刻蚀，其中刻蚀又分为干法刻蚀和湿法腐蚀。关键词：硅基；光电子学；SOI；光波导材料；光波导器件中图分类号：TN252文献标识码：A DOI：10．3969／j．issn．1001-5078．2011．09．001 in S01Materialssilicon—based optoelectronics CHEN Yuan-yuan of and andBusiness Information (CollegeComputer Engineering，BeijingTechnology University，Beijing100048，China) materialisan kindof materialsforsilicon—based Abst耐：SOI importantopticalwaveguide optoelectronicsapplica- tions．Inthis common methodsofSOl paper，the preparation materials，includingS1MOX·SOI，BE-SOI，SmartCut，are introducedatfirstandtheirdifferentcharacteristicsam common tomake technology compared．Then．the optical SOl and introduced．Amongwhich，the tech- waveguideusingmaterials，includingphotolithographyetching，ale etching isdividedinto and nology wet-etchingdry-etching．