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【2017年整理】电子信息物理学3.ppt

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【2017年整理】电子信息物理学3

3.7 固态电子能谱 单色光(如X光、紫外光)、电子(离子)束照射(轰击)样品 电子能谱 样品结构和成分信息 电子能谱: X射线电子能谱(XPS) 紫外光电子能谱(VPS) 俄歇电子能谱(AES) 电子探针X射线显微分析(EPMA) 广延X射线吸收精细结构(EXAFS) 3.7 .1 电子、光子、离子同固体相互作用概貌 电子束入射到固体样品表面 光照射固体样品表面 光电子、俄歇电子(俄歇Auger效应) 粒子束入射到固体样品表面 二次电子、二次离子、X射线 3.7 .2俄歇电子能谱 俄歇电子能量 能级电子结合能 样品功函数(逸出功) 测量俄歇电子能谱 确定俄歇电子动能 内层能级(深能级)电子 结合能EK、EL1、E2,3 俄歇电子发射的元素 元素检测(元素的指纹鉴定) 3.7 .3X射线光电子能谱 原子相互靠近 分子 外壳层电子轨道交叠 能带 内壳层电子轨道相对独立 基本保持孤立原子特征 内壳层电子结合能较大 原子序数Z 电子结合能 例如:K壳层电子结合能: Z=4(Be),111eV Z=18(Ar),3203eV 要使电子逸出固体样品,必须克服电子结合能和电子逸出功 可见光、红外光的光子能量不够(1.8~3.1eV) 紫外光的光子能量也不够( 3.1~42eV) 紫外光电子能谱 外壳层价电子特性 X射线可以激发样品内壳层能级的电子跃迁(42~12400eV) X射线光电子能谱 内壳层电子保持孤立原子特征 X射线光电子能谱 鉴定分子、原子价、化合物结构 连续性方程: 其他因素导致单位时间、单位体积内积累的空穴数: 扩散项 漂移扩散项 漂移项 复合项 其它 3.4 金属中的自由电子 3.4 .1 自由气能量状态与费米面 单位体积中金属的能态密度: 单位体积中的电子数(电子浓度): 当T=0K时, 费米能级 费米温度 例如Na的费米能级: 费米温度 一般情况,温度升高对电子分布影响很小 在费米能级EF 附近,温度上升对电子分布的影响较大 E= EF 的等能面为费米面 自由电子的费米面:理想时为球面 实际的费米面,与球面由较大的区别 T=0K E EF ,完全没有电子 EEF ,完全由电子占据(电子占满能态) T0K EF-kBTE EF的电子跃迁到EF E EF+kBT的能态上 电子的费米面对金属的物理特性有较大的影响 3.4 .2 电阻率和温度的关系 漂移运动导致载流子分布偏离均匀 外电场力: 稳恒状态,力平衡 金属 外电场 杂质、缺陷、晶格振动、载流子碰撞、散射,导致载流子分布恢复均匀 平均碰撞时间: 阻力: 电导率: 迁移率: 在费米面附近的电子对电导的贡献: 总自由电荷 荷质比 费米面附近的电子手晶格散射的弛豫时间 迁移率: 半导体 n型半导体 p型半导体 晶格振动 T 晶格振动散射 对载流子 扩散加强 主导高温区 电离杂质散射 T 载流子速度 电离杂质对载流子散射 主导低温区 迁移率: 低温, T 迁移率由 主导,迁移率 中温,T 迁移率由 主导,迁移率 高温,T 迁移率由 主导,迁移率 载流子浓度n或者p 低温,T 低温本征激发很小,主要由杂质电离增加载流子浓度 中温, T 中温本征激发增加,杂质电离恒定,平稳增加载流子浓度 高温, T 高温本征激发大幅度增加,杂质电离恒定,大幅度增加载流子浓度 半导体电阻率与载流子浓度和迁移率成反比 载流子浓度 迁移率 低温,T 电阻率 载流子浓度 迁移率 中温,T 电阻率 载流子浓度 迁移率 高温,T 电阻率 3.5半导体材料 半导体材料 元素半导体:Si、Ge、Se、Te…… 化合物半导体:晶态、非晶态无机、有机化合物、氧化物 3.5.1 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的化学键:共价键和极性键构成的混合键 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体由9中组成: GeAs(砷化镓)单晶材料:闪锌矿晶体结构,第二代半导体材料,继Si后发展很快、应用最广的半导体材料、 直接带隙 光电子器件、光电存储材料: InP(磷化铟)单晶材料: 在某些材料上比GeAs(砷化镓)更加优异 发展的趋势为: Si GeAs InP Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体(合金半导体): 例如: GePxAs1-x (三元素,0x1) (AlxGeP1-xAsySb1-y四元素,0x1, 0y1 ) 黑点处: 二元化合物半导体 黑但间连线上的点: 三元合金半导体 连线保卫的面上的点: 四元和经半导体 横坐标:晶格常数 纵坐标:禁带宽度、波长 化合物半导体需要与衬底晶格常数匹配 3.5.2 Ⅱ-Ⅵ 族化合物半导体 Ⅱ族半导体:Zn、Cd、Hg Ⅵ族半导体:S、Se、T

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