还原氧化石墨烯_Au复合微电极阵列的制备及光电特性_季津海.pdfVIP

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还原氧化石墨烯_Au复合微电极阵列的制备及光电特性_季津海

Vol. 37 高等学校化学学报 No. 10 2016 10 CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 1826 ~ 1832 年 月 doi :10. 7503 /cjc 还原氧化石墨烯/Au 复合微电极阵列的 制备及光电特性 , , , 季津海 闻雪梅 陈 洋 毕宴钢 ( , 130021) 吉林大学电子科学与工程学院 长春 - , 摘要 利用双光束干涉 无掩模光刻技术制备了周期性氧化石墨烯微结构阵列 利用肼蒸气对氧化石墨烯脱 , Au /Au (R-GO /Au). 氧还原 然后蒸镀超薄 薄膜制备了还原氧化石墨烯 复合微电极阵列 对复合电极在可见 , ,R-GO /Au . 光波段的透过率和表面电阻进行了表征 结果表明 复合微电极阵列具有良好的光电特性 将 R-GO /Au , 3. 43% . 复合微电极阵列引入到有机太阳电池中作为半透明阳极 器件的光电转化效率可达 /Au ; ; - ; 关键词 还原氧化石墨烯 复合电极 微电极阵列 双光束干涉 无掩模光刻技术 肼蒸气还原 中图分类号 O646 文献标志码 A 基 、3D 、 于微电极阵列的微器件在高分辨微显示 显示 传感器及生物医学等领域有着非常广泛的应 [1 ~ 3] , . 用 制备周期性透明微电极阵列是其关键技术之一 基于掩膜版的制备工艺由于针对不同的微电 [4 ,5] , , . , 极需要制作大量的掩膜版 成本高 灵活性差 基于刻蚀技术的制备工艺 例如干法刻蚀和湿法刻 , , , , 蚀 虽然已实现微电极的制备 但是加工设备昂贵 分辨率通常较低 并且常用的金属电极材料及铟 锡氧化物(ITO)等不易被有效刻蚀[6 ~ 10]. 近年来新发展起来的飞秒激光直写技术(FsLDW)可以实现高 [11 ~ 13] ,

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