雷射干涉仪之应用与原理.pdf

雷射干涉儀之應用與原理 授課老師：朱志良 教授 學生姓名：黃稚惠 學生學號：MA11V204 中華民國101 年 12 月25 日 一、摘要 近二十年來，雷射技術得以迅速的發展，由於雷射光束具有高亮度、準直性、 方向性、同調性之特點，因此在許多方面獲得了廣泛的應用。在工業應用上，高 精密定位技術是非常重要的技術，對於高精密定位系統而言，除致動器控制技術 外，高精度的量測更是重要的關鍵之一。例如雷射割切、加工、掃描、雷射雷達、 雷射位移計、雷射干涉儀等。 二、前言 2.1 背景 目前在工業界對於精密儀器之位置定位控制或誤差量測，多以雷射干涉儀作 為評估之標準，主要是由於雷射干涉儀穩定的長行程高量測精度可應用在奈米等 級的位置量測或位置回授，然而，.國內現有之雷射干涉儀相關技術，大多仍需 仰賴歐、美先進國家，故設計、製造、檢測及整合國內相關精密檢測產業與技術， 實為刻不容緩之事，且近幾年來由於高科技產業與半導體製程的進步，使得許多 電子元件所組合而成之類比電路系統，均可由一至二顆的數位積體電路取代之， 不僅可縮小電子產品之尺寸，更可達到高速之需求。故此本研究擬延續已完成之 雙頻雷射干涉儀計數卡及進行中的雷射干涉儀環境補償系統之研究開發，進行雷 射干涉儀自動量測與回饋系統之研製，整合完成為一套不僅能夠在自動量測校正 之系統也能夠進而作為奈米等級的高速數位回饋系統。 三、內容 3.1 雷射干涉儀之作動原理及機構 雷射干涉儀是目前長度量測領域最精密量測儀器之一，最早的干涉儀原係由 Albert A.Michelson所發明的，亦即現在所通稱的Michelson干涉儀如圖(2)所示，其 基本原理如圖(1)所示 ； 光由光源S(現在大都利用波長633nm之氦氖(He-Ne)雷射)發出後，在分光鏡A 處因鏡片表面鍍銀部份R作部份反射及透射，其中反射的光束到達反射鏡C ，透射 的光束則經玻璃鏡片B到D鏡片，B鏡片的功用是用來補償使反射及透射二光束經 過玻璃鏡片的次數。 觀察者則位於O的位置，在此可看到因AC及AD二道光束干涉所產生的干涉 條紋，此干涉條紋是因二光束的波峰、波谷作建設性及破壞性的重疊作用而來的， 有時稱為建設性(constructive)干涉及破壞性(destrucdve)干涉。 圖1. 雷射干涉儀之基本原理 圖2. 麥克森干涉原理 建設性干涉所產生的條紋為圖中的亮紋 ，而破壞性干涉則產生圖中間所示的 暗紋，此時，若增減AC 或AD 的長度達二分之一倍波長時，將會使干涉條紋改 變由亮變暗或由暗變亮。因此，如果把反射鏡C 固定而移動鏡片D 則可藉由干 涉條紋之明暗變化的次數來換算鏡片D 的位移變化量，其基本的解析度為λ /2 ， 此即干涉儀之基本原理。 圖3. 二道光束干涉所產生的干涉條紋 3.2 雷射波長之特性 1. 波長需精準，足以作為精確的量測。 2. 波長需非常短，足以作為高分辨率測量。 3. 全部波都相同，產生干涉原理。 四、應用 1. 線性距離之測量 2.角度之測量 4.真直度之量測量 4.垂直度量測 5.旋轉量測 6.平坦度量測 五、結論 雷射干涉儀與不同鏡組的配合可以進行不同的量測，而雷射干涉儀所使用的 光源為氦氖穩頻雷射 ，這是為了避免當雷射光源強度 及波長有變化時 ，將使光 干涉的結果產生不良的誤差，伴隨著高科技時代與半導體產業及顯示器產業的進 步，高精密的檢測跟高精密的定位的需求越來越大。以我國目前量測研發技術來 說，仍然需要仰賴外國進口的設備，為了使我國能追上別國腳步，必須建立可以 自我研發及製造能力，以提升我國對外競爭能力 。 六、參考文獻 1. .tw/handle/10537/13294