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第五章薄膜的评价表征及物性测量新
5.3 薄膜成分的表征 入射到靶上的粒子束或者发生弹性散射或者引起原子中 电子的跃迁。散射粒子或出射粒子的能量包含原子的特 征,跃迁能量是已知原子的标示,因此,测量出射原子的 能量谱即识别了原子。 5.3 薄膜成分的表征 X射线能量色散谱----EDX (能谱仪) 常规成分分析仪器,广泛安装于SEM、TEM上。 电子显微镜的高能电子束,激发材料(薄膜)中 电子使其发射特征X射线,进而标识成分。 按能量记录下来,X射线能量色散谱仪-EDX。 按波长记录下来,X射线波长色散谱仪-WDX。 5.3 薄膜成分的表征 俄歇电子能谱仪(AES) 在AES中,我们通过测量电子辐射样品所发射内层电子(俄 歇电子)的能量分布来确定样品的组分。 特点:适合分析原子序数小于13的轻元素和超轻元素。 入射电子束的束斑小,适合分析微区成分。….. 独特优点: 不但可鉴定样品中的组成元素还可测定它的化学状态。 俄歇电子谱的另一个主要应用是确定薄膜中组分随深度和层 结构的变化,这一研究依赖与俄歇系统所配备的溅射离子枪。 俄歇信号在样品表面附近产生出来,离子溅射为深度分析提供 了层断面技术。 5.3 薄膜成分的表征 X射线光电子能谱(XPS) X射线光电子能谱法是用特征X射线作入射束,在与样品表面原子相互作用后,将原子内壳层电子激发电离。被入射特征X射线激发电离的电子称为光电子。 工作原理:光子能谱从10ev开始延伸,具有这些能量的光子可以穿入固体内与内壳层电子发生作用。入射光子将整个能量转移给束缚电子,只要能测量出从样品中逃逸出来且没有能量损失的电子能量,则可提供样 品中所含元素的标识。 特点:对样品没有破坏作用;不消耗样品;能鉴定元素和它所处的化学状态;分析深度较浅,大约在表面以下25-100埃范围;可分析分子中原子周围的电子密度;分析元素范围较宽,可从He到U。 5.3 薄膜成分的表征 X射线光电子能谱(XPS) 5.3 薄膜成分的表征 二次离子质谱(SIMS) 是一种表面离子谱型分析技术。就是用质谱仪对从样品表 面发射出来的正负二次离子进行质量分析的鉴别表面元素。 工作原理:入射离子溅射膜材料,产生的二次离子进入能量 过滤器,然后在质谱仪中被收集。 结构原理:从离子枪产生的一次离子经过质量聚焦、电磁焦 距后入射到样品的系统称为一次离子光学系统。二次离子从 样品发射之后,经过质谱分析和测量称为分析测量系统。用 计算机处理、记录仪记录和图谱显示等称为操作显示系统; 另外还有真空系统和电源系统。 5.3 薄膜成分的表征 卢瑟福背散射(RBS) 在卢瑟福背散射中,具有单一能量的入射α粒子的与靶粒 子相碰撞,然后被散射到探测器,用来测量粒子能量的分析 系统。在碰撞中,能量从运动粒子传递给静止的靶原子;散 射粒子能量的减少取决于入射和靶原子的质量,通过测量弹 性碰撞后散射粒子的能量,从而提供了识别靶原子。 背散射的光谱可以确定薄膜的组分。 5.3 薄膜成分的表征 电子探针EPMA测成分 ????EPMA是用高速运动的电子直接轰击被分析的表面, 当高速电子轰击到原子的内层,激发出各种样品元素的 特征X射线,经分光后根据特征X射线的波长及其强度 作定性和定量分析。 ????由于该方法用于激发特征X射线的电子束被汇聚成很 细的束,宛如针状,故俗称电子探针分析。 ????电子探针常与SEM结合起来,即在获得高分辨图象的 同时,进行微区成分分析。 第5章薄膜材料的评价表征及物性测量 5.1 膜厚的测量及控制 5.2 薄膜结构的表征 5.3 薄膜成分的表征 在薄膜制备过程中和沉积以后需要测量薄膜的厚度, 在薄膜沉积过程中的膜厚确定需采用原位测量。 5.1 膜厚的测量及控制 1 台阶仪 2 干涉仪 3 椭偏仪 4 振动石英方法 工作原理: 探针在垂直方向上的位移被通过电信号被放大, 并记录下来.从膜厚的边缘可以直接通过探针针尖所探测到的阶梯高度确定薄膜厚度. 采用类似原子力显微镜的激光反射悬臂梁的方法来测量纳米级位移可将扫描时的接触力降低到最小 0.05毫克,在软的样品上扫描时不划伤样品,保证测量值准确,避免划掉的颗粒再次影响测量准确性.这是薄膜厚度测试仪的第一重要指标,力越小,讨论分辨率,重复精度才有意义! 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 测量膜厚的的探针法 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 XP-1 型台阶仪 XP薄
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