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反常电子粘滞性引起的线性双撕裂模研究.PDF

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反常电子粘滞性引起的线性双撕裂模研究

第 31 卷 第 1 期 核 聚 变 与 等 离 子 体 物 理 Vol.31, No.1 2 0 1 1 年 3 月 Nuclear Fusion and Plasma Physics March 2011 文章编号:0254−6086(2011)01−0008−07 反常电子粘滞性引起的线性双撕裂模研究 1, 2 1, 3 1 1 何志雄 ,董家齐 ,何宏达,龙永兴, 牟宗泽1 1 1 2 ,刘 峰 ,蒋海斌,高 喆 (1. 核工业西南物理研究院,成都 610041 ;2. 清华大学工程物理系,北京 100084 ;3. 浙江大学聚变理论和模拟中心,杭州 310027) 摘 要:用圆柱位形的磁流体动力学方程对由反常电子粘滞性引起的双撕裂模的线性行为做了数值研究。分 析了两个有理面的间距、粘滞率大小和极向模数对双撕裂模模式结构的影响,给出了各种情况下双撕裂模线性增 长率跟表征反常电子粘滞率大小的电子雷诺数的定标关系。 关键词:双撕裂模;反常电子粘滞性;数值模拟 中图分类号:TL61+2.2 文献标识码:A 1 引言 磁场结构中,准稳小幅度扰动引起的磁辫结构,不 先进托克马克装置的一个重要特性是具有非 仅可能会导致反常电子热传导,而且还可能导致平 单调安全因子剖面,能够提供负磁剪切[1, 2] 。这种 行于平衡磁场的电子动量横越该磁场的反常输运, 位形由于有多个共振有理面( k ⋅B 0 ) ,容易激发双 即电子的平行粘滞系数 μ 的反常增大。不少实验已 e 撕裂模(DTM) ,甚至三/多撕裂模[3] 。双撕裂模的研 经表明:伴随托卡马克装置的负磁剪切位形的运 究,对于探索和解决先进托克马克装置诸如内部输 行,一些强电磁漂移波湍流发展起来、直到饱和, 运垒的形成机制,会有积极的帮助。 因而产生了反常粘滞率(包括电子粘滞率 μ )和电 e 由等离子体电阻引起的双撕裂模的研究已经 阻率。换句话说,负磁剪切位形运行不但容易激发 比较系统和成熟。Pritchet 等人[4]用解析的方式研 DTM ,而且还为它提供了一个具有μ 的背景等离 e 究了双撕裂模的线性行为,给出了线性增长率的定 子体,因此电子粘滞性作为引起撕裂模的耗散效应 标:当两个有理面的距离充分小时,线性增长率γ 而被关注。董家齐等人在他的双撕裂模研究中引入 跟电阻磁雷诺数 S 的定标关系是γ ~ S −1/ 3 ;当他们 了电子粘滞项[11, 12] ,用解析的方法给出了剪切平板 的距离足够大时,定标为γ ~ S −3/ 5 。这里,电阻磁 位形的线性增长率跟电子磁雷诺数 R 的定标关系: 雷诺数 S ≡τ /τ ,τ 是磁场的电阻扩散时间,τ 是 对 m 1 ,当两个有理面距离充

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