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氧化锌半导体薄膜的发光光谱特性
第 20 卷第 9 期 半 导 体 学 报 . 20, . 9
V o l N o
1999 年 9 月 CH IN ESE JOU RNAL O F SEM ICONDU CTOR S Sep. , 1999
氧化锌半导体薄膜的发光光谱特性
傅竹西 林碧霞 郭常新 廖桂红
( 中国科学技术大学物理系 合肥 230026)
( )
摘要 用直流反应溅射方法在 Si 100 基片上生长出具有六角晶型的 ZnO 薄膜. 测量了样品的
阴极射线发光特性及其与薄膜晶体结构的关系. 在所有测量样品中均观察到较强的绿带
( ) ( )
520nm 发射, 随着薄膜单晶程度的提高, 光谱中开始出现蓝带 ~ 450nm , 并在类单晶薄膜中
( )
看到了强度大于绿带的近紫外谱带 390nm ; 它的强度随着阴极射线电子束流密度增加而迅速
增加. 根据 ZnO 中激子的结合能数据, 推测紫带发射来源于 ZnO 的激子跃迁. 实验结果说明, 通
过改进薄膜的结晶状况可进一步增强 ZnO 薄膜的短波长发光.
: 7840, 7860 , 6855
PACC H
1 引言
[ 1~ 8 ]
过去几十年中, ZnO 作为一种阴极射线荧光粉被许多人广泛研究过 . 近年来场发射
[ 8 ]
显示方法的兴起, , 使 ZnO 荧光粉的研究重新得到重视 . 在薄膜材料领域, ZnO 薄膜可做
[ 9 ] [ 10 ] [ 11 ]
成表面声波谐振器 , 压电器件 和 GaN 蓝光薄膜的过渡层 , Bagnall 等人最近报道了
[ 12 ]
ZnO 薄膜的光泵浦发光 . 但对 ZnO 薄膜阴极射线发光特性的研究至今还没有人报道过.
ZnO 是一种自激活的半导体材料, 它具有纤锌矿结构, 禁带宽度为 32eV , 从理论上分
( )
析, 应该具备蓝光或紫外发射的本领; 同时, ZnO 有很高的导电 导热 性能, 并且是一种非
常稳定的氧化物, 因此, 用 ZnO 薄膜制备出短波长发光器件必然具有高的工作稳定性和较
低的价格, 有极大的应用价值.
2 实验
本实验采用的样品是用直流反应溅射方法在 Si 基片上淀积的 ZnO
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