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基于沉淀工艺制作四脚氧化锌纳米材料场致发射阴极的研究!-物理学报
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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基于沉淀工艺制作四脚氧化锌纳米
材料场致发射阴极的研究!
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覃华芳 郭太良
(福州大学化学化工学院,福州 #$$$% )
( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿)
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采用沉淀法制备四脚氧化锌纳米材料场致发射阴极,将阴极和荧光屏封装起来抽真空并对屏施加电压,测试
阴极的发射电流和荧光屏的发光亮度 利用沉淀法制备出面积为( ) 的阴极,测试结果表明,硅酸钾体积
) * + *# ,-
百分比在# .$ + *$ / —0 . + *$ / 范围,硝酸钡浓度在# .$ + *$ / 1 —’ .’ + *$ / 1 2 范围,四脚氧化锌的浓度在0 . +
/ 1 — / 范围时,阴极发射电流最大,荧光屏的发光亮度峰值可达到 ,平均亮度为
*$ *. + *$ 2 %$ ,34 ,- 10 ,34 ,- )
关键词:场致发射,沉淀法,显示屏亮度
: , ,
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相比较,沉淀法制作的阴极具有重复性好,材料均
*. 引 言 匀、牢固、密实等优点)
目前,采用沉淀法制备阴极的文献资料尚未见
场致发射显示器( )是所有平板显示器中发
I;J 报道,本文尝试采用沉淀工艺制作四脚氧化锌纳米
光原理最接近阴极射线管( )的一种平板显示
KLM 材料场致发射阴极,研究探讨了影响阴极发射电流
[,]
器* ,也是最有希望取代 KLM 的新型平板显示器) 的因素)
场发射阴极( )是 最核心的部分,金属微尖
I;7 I;J
阵列( )是最早被研究的场发射阴极,但由于该
NO=H3? . 实 验
结构涉及到精密光刻、刻蚀和薄膜沉积技术、器件制
作成本很高,很难实现大屏幕,为了寻求 发射
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