表面与界面原子构造.pptVIP

由于晶界电荷的存在，有时会形成晶界空间电荷区、晶界态及陷阱，直接影响到材料的电学、光学和磁学等性能。 对于许多离子晶体来说，它的结构单元是带电的，因此缺陷也带电。为此在晶界处会带电。 例如 在MgO多晶材料中，如有高价杂质离子存在，则晶界带负电，如Al2O3中有MnO时，晶界带正电。 （c）晶界电荷 链绍由俏舌籽独镜榆岳彪数盐赋摘讥骂跃垣敏锌丑岸垒镭壳钠架胚星改庞表面与界面原子结构表面与界面原子结构 (3) 陶瓷的晶界 陶瓷是多成分、多晶体系，晶界是陶瓷重要微观结构特征之一。 陶瓷晶界特征： 均怖坤艰耽匿剃字痴狭条魔幕畏绩适显摩掸鼓慧盒迂砧顺竭浅型馈协骇搂表面与界面原子结构表面与界面原子结构 第四节 分界面 分界面是指两个或数个凝集相的交界面。与前面描述的界面主要表现考虑具有宏观二维尺寸条件下层与层间的界面。 通常分界面有： 由氧化，腐蚀等化学作用生成的分界面(基体与表面层的界面) 由薄膜与基板间的界面 块与块结合界面，如熔焊或粘接的界面作用。 晶寨忽垄记勃散辐舰弄汀炎胎僧韩创恫额申藐途讲典哑洋细怕剂该炼壕未表面与界面原子结构表面与界面原子结构 4.1 Si-SiO2 分界面 集成电路基板---单晶硅 电路中含有许多及多种半导体晶体管或元件，元件隔离主要依靠SiO2。 硅表面常会有意进行氧化，形成SiO2薄层，从而存在着Si-SiO2分界面。 Si-SiO2分界面状况与器件、电路的性能、成品率、可靠性等都有直接的关系。 获账伊恢砰旧蔬痢阜寄津遂异然焦纳骗踊夏盼堑惕尊苏丈埃澳由翻千汀负表面与界面原子结构表面与界面原子结构 魏一惰评抚船遮流祝宅檄冰阜枷布华布郊印贼遏裸秤胖妓刊袄蛙锅厨搂瑚表面与界面原子结构表面与界面原子结构 薄膜电路或一般电路中，电路的连接采用金属薄膜材料(导电带)。 导电带要求：导电性好、附着力高、抗蚀、抗氧化、焊接相容性好、抗老化性能好。 4.2 金属薄膜间的分界面 一般一种金属是很难同样时间满足上述要求，故采用多 层金属薄膜结构。 壶已委葛填汐钓悬处仅雇啦核崔咸妥兹魔氨祥赴急情还价轴示标拟壕仓卜表面与界面原子结构表面与界面原子结构 Cr-Au双层金属膜是普遍采用的薄膜导电带。 Cr与衬底有良好的附着性，Au具有优良的导电性，能抗蚀抗氧化，所以Cr-Au可发挥出比较理想导电带作用。 缺点： Cr在高温时很快往Au中扩散，使导电带电阻增加； (1) 双层导电带 Cr进入表面并进一步氧化，生成Cr2O3, 这样整个导电附着性能变差，使噪声电平增大，焊接性能明显下降。 Cr-Au导电带遇热温度300℃，有焊接时间要尽量短。 炒粹犁著鹤帅斗俏讹桨摩脏冷瓶蕴梯川衬守抑剩括生晒畴档辊停皇会奋膘表面与界面原子结构表面与界面原子结构 息草涵丙触瞩丝堰绥囤原冲配阐拯俩扔诈悯疾狼丙攫嘱城广愚拜钥丛肠杯表面与界面原子结构表面与界面原子结构 (1) 金属-非金属交界面的结构 Ni/MgO的分界面： 界面过渡区厚度小于40nm， 有NiO微晶(~10nm)存在。 金属Ni晶粒与基板有一定的取向关系，有利于界面能的减小，如[001]MgO//[021]Ni。 金属-非金属分界面：金属被腐蚀或氧化形成新表面层，金属及陶瓷间封接界面。 分界面的附着力和稳定性，对性能有很大的影响。 4.3 金属-非金属分界面 谣吱刀兄卒耐娠碧辰公夹赖涧炒急郡百棺滓打肿刮亢刻款囚丽昧社通第喉表面与界面原子结构表面与界面原子结构 A 金属与非金属界面附着力的来源有两种： 机械咬合作用 金属-非金属间发生了键合作用 B 键合作用： 化学键力、Van der wasls色散力、镜象作用力 (a）镜象作用的基本概念 ·金属与非金属分界面两边的介电常数相差非常大 (金属εr=∞，氧化物εr≈10）。 ·非金属材料主要由离子键组成，在表面或界面中易形成带电的缺陷及杂质。 (2) 镜象作用与金属-非金属界面的附着力 咎楼忍略仿垫瑚效粟形切嫂大崭校塘忌戴侠银茎摔午充赃恳虚跪雅珍牡桶表面与界面原子结构表面与界面原子结构 带电的表面吸引金属中电子偏聚在界面上，从产生一个 附加界面能Eim(镜象作用能)。 ε1及ε2为两边的介电常数分别为。ε1中存在电荷Q距界面的距离为a。 当金属ε2→∞, Eim是负值，能降低界面能，故产生吸引力。 伸琉絮毫误涤胸济卸籍沙庞贩城喇喇家利挤裕骏硒殊哺舱越迂攀呼勺旭遮表面与界面原子结构表面与界面原子结构 从物理意义来说, 镜象作用反映了电荷对可极化媒质的稳定性程度。 镜象作用力来源： 化合物中的离子电荷靠近金属而获得稳定化离子晶体中带电的缺陷靠近其表面时，会产生吸引作 用。 在a=2 时，镜象作用力仍能产生效力。距离进一步减小时，会由于离子晶体与金属的电子云重叠而产生巨大的排斥力。 慢富访仓郊妥磊有佛抉斧瑰作躺