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光刻投影镜头多闭环温度控制系统 摘 要 图像质量是光学光刻工具的最重要指标之一，尤其易受温度、振动和投影镜头 （PL ）污染的影响。本地温度控制的传统方法更容易引入振动和污染，因此研发多闭 环温度控制系统来控制PL 内部温度，并隔离振动和污染的影响。一个新的远程间接 温度控制（RITC ）方案，提出了利用冷却水循环完成对PL 的间接温度控制。嵌入温 度控制单元（TCU ）的加热器和冷却器用于控制冷却水的温度，并且，TCU 必须远离 PL, 以避免震动和污染的影响。一种包含一个内部级联控制结构（CCS ）和一个外部并 行串联控制结构 （PCCS ）的新型多闭环控制结构被用来防止大惯性，多重迟滞，和 RITC 系统的多重干扰。一种非线性比例积分（PI ）的算法应用，进一步提高收敛速度 和控制过程的精度。不同的控制回路和算法的对比实验被用来验证对控制性能的影响。 结果表明，精度达到0.006℃规格的多闭环温度控制系统收敛率快，鲁棒性强，自我适 应能力好。该方法已成功地应用于光学光刻工具，制作了临近尺寸 （CD ）100 纳米的 模型，其性能令人满意。 关键词：投影镜头，远程间接温度串级控制结构，并行串连控制结构，非线性比例积 分（PI ）的算法 1 简 介 由于集成电路缩小，更小的临界尺寸（CD ）要求，生产过程的控制越来越严格。 作为最重要的制造工艺设备，先进的光学光刻工具需要更严格的微控制环境，如严格 控制其温度、洁净度、气压、湿度等。温度波动，特别是导致图像失真和平面图像转 变，成为了光学光刻工具对图像质量影响的一个关键因素。投影镜头(PL) 内的温度精 度要求一个光刻工具在接近0.01℃制造一个小于100 nm 的模型。另外需要PL 内部温 度收敛率快以降低光刻技术的所有权（CoD ）的成本. 然而，实现这些目标是一个很 大的挑战，因为加热器和冷却器控制温度要求操作远离PL, 否则其性能将被它们的振 动和污染所破坏。另一个原因是，PL 内部结构复杂，它包含数十个镜头，会导致几个 小时惯性，所以PL 内部的温度反应相当缓慢，并需要很长时间去调整适应。因此， 一个新的结构和控制算法是PL 内部温度控制的必要和重要部分。 许多温度控制结构已经被提出了。著名的经典方法之一是被广泛应用于简单或低 精度温度控制系统的单闭环回路控制结构。当被控对象变得更加复杂或产生分布式干 扰时，串级控制结构（CCS ）的提出改善了精度和收敛率。预测前馈控制结构已被证 明具有更好的滞后系统性能。另一种有效的方法，并行串级控制结构（PCCS ），也开 发了具有延迟分布式干扰的系统。但是上述使用方法，很难实现PL 内部温度控制的 高精确度和快收敛率。 在此，本文提出了一种新的方法，即多闭环温度控制系统，含有一个内部CCS 和 一个外部PCCS 。本文大致分为四个部分。第一部分解释了一个远程间接温度控制方 法的应用。第二部分是一个多闭环回路温度控制结构的分析。第三部分，一个双进双 出非线性比例积分（PI ）算法的提出用来提高控制过程的收敛速度和精度。在文章的 最后一部分，对比实验验证了系统的有效性这种显示，最后，给出了结论。 2 远程间接温度控制方法 为了防止震动和污染影响PL 的性能，一个远程间接温度控制的方法被提出来控制 PL 内部温度。不同于传统的直接加热和冷却控制对象的方法，它借助于冷却水和冷却 套间的热交换使PL 内部温度恒定。冷却水通过长距离管道由TCU 输送至冷却外壳。 TCU 由水箱、温度传感器、温度控制器、加热器、冷却器和泵组成。它用于调节冷却 水的温度以达到需求值。TCU 和光刻工具放置在不同的洁净室，如图1 所示。理论上， 这种方法属于开环结构。 除了PL，其他光刻技术的部分，如晶圆阶段、标线的阶段、标线交接、晶圆移交 等，都在操作时产生热量。TCU 中的冷却水还用于冷却光刻技术的其他部件。循环系 统回收冷却水，节省最大能量，是很必要的。图1 展示了包括TCU、分离器、冷却套 和管道的循环系统。从储水中抽出冷却水通过管道和分离器进入冷却套，最后通过合 成器、管道和冷却器流回储水箱。 对冷却水循环系统的分析表明了影响PL 内部温度的三个主要因素：干扰多，迟 滞多，还有惯性大。干扰多，包括冷却水温度波动，PL 内部热量散失，PL 和外部介 质之间的热交换。冷却水温度波动是多种因素造成的，其中包括TC