一种测量光刻机工件台方镜不平度的新方法.pdfVIP

第34卷第4期 中 国 激 光 V01．34。No．4 2007年4月 CHINESE 0F JOURNALLASERS April，2007 文章编号：0258—7025(2007)04一0519一06 一种测量光刻机工件台方镜不平度的新方法 。何乐1’2，王向朝1，马明英1’2 (1中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室，上海201800；2中国科学院研究生院，北京100039) 摘要 提出一种新的步进扫描投影光刻机工件台方镜不平度测量方法。以方镜平移补偿量与旋转补偿量为测量 目标，使用两个双频激光干涉仪分别测量工件台在z和Y方向的位置和旋转量；将方镜不平度的测量按照一定的偏 移量分成若干个序列，每一个序列包括对方镜有效区域的若干次往返测量；根据所有序列的测量结果计算出方镜 的旋转补偿量；为每一个序列建立临时边界条件，并据此计算出每一序列所测得的方镜粗略平移补偿量；采用三次 样条插值与最小二乘法建立每一个序列间的关系，以平滑连接所有测量序列得到精确的方镜平移补偿量。结果表 明，该方法用于测量方镜平移补偿量，测量重复精度优于2．957 nln，测量旋转补偿量，测量重复精度优于0．102tzrad。 关键词测量；干涉测量；不平度；方镜；工件台}光刻机 247 中图分类号TN305．7：TN 文献标识码A Non—FlatnessMeasurementofWaferMirrorsin Stage a Tool Step。。and--ScanLithographic HE Lel”，WANG Xiang-zha01，MAMing-yin91，2 Institute andFine rInformationOpticsLaboratory，ShanghaiofOptics Mechanics，1 TheChinese 201800，China f AcademyofSciences，Shanghai 2 GraduateSchooltheChinese 【 of AcademyofSciences，Beijing100039，ChinaJ AbstractAnovelin-situnon-flatnessmeasurementmethodofwafer mirrorsina scan stage step-andlithographic is tOthe ofmirrornon-flatnessonwafer non-flatnessof toolpresented．Accordingimpact stage’Spositioning，the themirroris astranslation androtation double laser expressed compensation compensationusually．Thefrequency interferomet