在位x射线衍射技术对三种芳杂环聚合物热结构化过程的研究.pdfVIP

‘炭素工艺与设备》第9卷，2002年，兰州第33～39页 在位X一射线衍射技术对三种芳杂 环聚合物热结构化过程的研究 赵根祥 邱海鹏 (中国科院山西爆炭化学研究所，太原，030001) 陶琨 (清华大学材料科学系，北京，100084) 摘要l本文用在位x一射线衍射技术艰球考察了三种芳索环聚合轴热鲒扮化过程．从所 获得的x一射线衍射劝态谱中发现，试样单元鲒构的分子健在600℃咀前避致破坏，使得 分子的排列呈无序状态，继续升禹盖度其分子避渐变成环一环六方一面和堆积成类石圣 片状蛄抽，而试样(I)还呈现出(001)反射面存在的蛄构特征．较详细地讨话7温度对试 样鳍构的彰响。同时，还定量测定和估算了试样(1)和I)的结构参数(面问矩、微晶尺寸 等)随热解炭化温度连续变化的数值，井分析了两者在蛄构上所存在的盖异． ～ l实验方法 在位x一射线衍射技术考察聚酰亚胺薄膜的热解炭化过程迄今尚末见过报道。我们 选用三种聚酰亚胺薄膜作为研究对象．它们分别由桂林电器科学研究所(I)、哈尔滨绝缘 De pont 材料厂(I)和美国E．I．Du 衍射仪上进行的。将试样放入该仪器附件一231181高温装置中，控温热电偶固定在试样 的侧表面。在真空状态下。由计算机按设定的程序以20c／分的加热速度进行升温。每间隔 一定温度进行一次x一射线衍射扫描，扫描范围20从104到35。·并随时录谱．x一射线衍射 为0．02。，时间为0．6秒． 2结果与讨论 由于本工作利用在位X--射线衍射技术对试样热结构化过程的动态变化和瞬时固态 一33— 产物测量的方法直观性强．加之计算机处理数据，速度快，精度高，能真实地观察到试样随 实验条件所发生的微小变化．这样便能考察试样在真空状态中进行热解炭化而发生变化 的x一射线衍射谱。 图1示出了试样(I)随热解炭化温度变化的x一射线衍射系列谱图。由图l可见，试样 (I)的衍射强度的最大值约在20=18．8。，相对于分子链的横向排列，其链间距在 0．47nm。这数值与文献“J所报导的结果 图1在真空状态里试样(I)随热解炭化温度变化的 x一射线衍射系列谱图 r 相一致．它代表了该样品具有完整不佳的准晶体。随着热解炭化温度的升高，该衍射峰的 峰形变得宽散，呈馍头状，高聚物处于各向同性态。特别是在550--600(2温度间隔内，其蜂 的衍射强度大减，分子链间的距离变得足够大，分子的排列呈无序状态。这就暗示出该体 一34— 系因温度引起单元(PMDA--ODA)结构的分子链破坏，造成结晶降解。与此同时，还可看 到在室温至600C温度范围内，因热解温度的提高，造成试样中分子内应力的改变，导致了 该衍射峰从高角度向低角度位移，20位移的数值约为2．8。这一信息尚未见到文献中有所 报导。继续升温到700C时，该衍射峰几乎消失。而在20=22．5’。附近出现了更加微弱可辨 的新峰。它相对于在热解炭化期间试样内分子形成环环六方网面结构逐步进行堆积成类 石墨片状结构的(002)峰相似的结果。 图2在真空状态里试样(I)随热解炭化 盖度变化的x一射或衍射系列谱冒 图2代表了试样(i)随热解炭化温度变化的x一射线衍射系列谱图。可以明显地看 (111)，这与最近Q】eda等人啪所报导的结果相吻合。它们随着热解炭化温度的提高发生着 一35— 高，从高角度向低角度位移，2啦移的数值约为3．4。，且峰形变窄。而(111)衍射峰的蜂位 却向高角