磁控溅射功率对引线支架表面沉积w组织及性能的影响-表面技术.pdfVIP

第43卷摇 第6期 摇 摇 摇 表面技术 摇 摇 2014年12月 SURFACE TECHNOLOGY ·33 · 試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試試 磁控溅射功率对引线支架表面沉积W 组织 及性能的影响 张光耀,高原,张焱,王成磊,韦文竹,陆小会 (桂林电子科技大学材料科学与工程学院,广西 桂林541004) 摘摇 要: 目的摇 研究在镀铜的铁基引线支架上沉积钨薄膜的工艺及其性能。 方法摇 利用真空磁控溅射 技术沉积制备钨薄膜层,并用SEM,EDS,XRD等技术对沉积层的组织和性能进行分析。 结果摇 在一定的 工作气压、温度和沉积时间下,钨沉积层厚度随着溅射功率的增大非线性增加,沉积层均匀性好,组织较 -6 致密,与基体结合力较强,沉积层钨原子沿(110)晶面择优生长。 沉积层的电阻率小于1.5伊10 赘 ·m, 电阻温度系数小于0.0052/ 益,抗氧化性较好。 结论摇 在引线支架表面沉积金属钨可获得组织均匀致密 的薄膜,其结合力、导电性、抗氧化性能良好。 关键词:磁控溅射;薄膜;钨;导电性;结合力 中图分类号:TG174.444摇 摇 摇 文献标识码:A摇 摇 摇 文章编号:1001鄄3660(2014)06鄄0033鄄04 Effect of Magnetron Sputtering Power on the Structure and Properties of Deposition W on the Surface of Lead Frames ZHANG Guang鄄yao,GAO Yuan,ZHANG Yan,WANG Cheng鄄lei,WEI Wen鄄zhu,LUXiao鄄hui (School of Materials Science and Engineering,Guilin University of Electronic Technology,Guilin541004,China) ABSTRACT:Objective To study the technology and properties of depositing metal W film on the surface of iron鄄based lead frames,whichhadbeendepositedwithCu. MethodsTungstenfilmslayerwaspreparedbyvacuummagnetronsputteringdeposition technique,and then the structure andpropertiesof the depositedlayerswere analyzedby SEM,EDS,XRDandother techniques. Results Under certainoperatingconditionsofpressure,temperatureanddepositiontime,thethicknessoftungstendepositionlayers increasedwiththeincreaseof sputteringpower,buttheincreasewasnonlinear. Thefilmthicknessuniformityofthedepositedlayer was good,with dense structure and strong binding force with the substrate. The deposited layer films by magnetron sputtering W had low im