多维复用硅基集成光子器件_SiliconPhotonicD_省略_cesforW.pdfVIP

网络出版时间：2017-09-12 16:07:31 网络出版地址：/kcms/detail/34.1228.TN1607.002.html 多维复用硅基集成光子器件 Silicon Photonic Devices for Wavelength/Mode/Polarization Multiplexing 储涛/CHU Tao1 郭德汾/GUO Defen2 吴维轲/WU Weike1 （1. 浙江大学，浙江 杭州 310027 ； 2. 中国科学院半导体研究所，北京 100083 ） (1. Zhejiang University, Hangzhou 310027, China；2. Institute of Semiconductors, CAS, Beijing 100083, China) 中图分类号：TN929.5 文献标志码：A 文章编号：1009-6868 (2017) 05-0000-00 基金项目： 国家自然科学基金61635011 ）；国家重点研发计划 (2016YFB0402505) 摘要： 从波长、模式、偏振几个维度的复用/解复用和路由出发，分别提出了新颖的器件设计方法 并制作了相应的硅基光子器件，包括：阵列波导光栅器件（AWG ）/刻蚀衍射光栅器件（EDG ）、 模式分离合束器件、偏振分离耦合光栅、偏振分离/分离旋转器件。其中，AWG 可以采用一 步刻蚀简单工艺制作形成，EDG 插损得到大幅降低，模式分离器件带宽增大，插损也得到 降低，偏振分离耦合光栅的耦合效率得到有效提升，偏振分离/旋转器件的插损和带宽也被 显著改进。以上器件全部符合 CMOS-180 nm 工艺标准，这些器件的研制工作为多维度光波 复用/解复用处理及传输提供了先进的器件技术保障。 关键词： 波长复用/解复用；模式复用/解复用；偏振控制；硅光器件 Abstract: In this paper, various silicon photonic devices designed for wavelength/mode/polarization multiplexing/demultiplexing technologies are proposed, including arrayed waveguide grating (AWG) and etched diffraction grating (EDG), mode splitting beam combining device, polarization separation coupling grating, polarization separation / separation rotating device. With these novel methods or devices, the following results can be achieved: (1) AWG could be formed by a simple step etching process; (2) EDG insertion loss is greatly reduced; (3) mode separation device bandwidth increases; (4) the insertion loss is al