多晶硅还原炉的电器设备.pdfVIP

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  • 2017-11-27 发布于福建
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摘 要:目前,国际上 多晶硅的生产,工艺大多采用改 良西门子法,其关键设备为还原炉:本文介绍了国内常用的 12对多 晶硅棒还原炉之国产主要电器设备,并根据多晶硅生产的流程和工艺,说明选择这些电器设备参数的原则和依据,着重介绍了 生产 电子级多晶硅用的高压启动方式 ,以及可控硅调功器 “拼波”的原理 、 关键词:多晶硅:还原炉:电器设备 中图分类号:TM42 文献标识码 :A 文章编号:1001—90()6(2010)03—0062—07 ElectricalEquipmentsOfPolysiliconReductionFurnace LIShi——zhen (Don出ngElectri~、alAuto((ntrolEngineeringCo.,Ltd.,618000.Deyang.Siehuan,China) Abstract:Currently,modifiedSiemensprocessandreductionfl~rnace3reextensivelyusedinpolysiliconproductionworldwide.Inthis paper,adomesticelectricalsystem isdesf。ril)edwhichcanhoht12polysiliconrodsandisverycommoninChina.Next.principleof parametersofelec[ricalequipmentsisdiscussedbased()nthepolysiliconproductionprocessesandtechniques.Itisrepresentedindetails thatstart)nodewithhigh—voltf0rtheproduction()felectronicgradepolysilicon.Andasteplessvohageregulaliontechniqueisconsideredas wellwhirhisbasedonthethem3ofVohageSequenceControl(VSC). Keywords: polysiliconproduction;reductionfurnace;elect)ic‘alequipments 伴随着全球节约能源、减排二氧化碳的潮流, 硅的方法:该生产方法的原料是三氯氢硅和氢气。 近年来,我国多晶硅生产方兴未艾 。 在温度为 l050~1150℃时,三氯氢硅与氢气 多晶硅是制造光 /伏发 电的太 阳能电池片的基 在还原炉 内主要发生下列反应121: 础材料 。同时,以电子级多品硅为原料生产的单 SiHCI3+H2=Si+3HCI 晶硅是电子信息产业的基础材料 ,是生产大规模 这是一种氢还原反应。 集成 电路 、半导体分离元件 、电力 电子器件 的原 1.2 还原炉生产多晶硅 材料。 近年来 ,国内大规模多晶硅生产 ,还原设备 1 多晶硅生产概述 多采用 12对棒的还原炉。 1.1 三氯氢硅氢还原法 12对棒还原炉将炉内硅芯f硅棒)分为 3个区域: 目前国际上多品硅生产T艺有 70%以上采用 内环、外环 1、外环 2 每个区域都有4对多晶硅 改 良西门子法¨I。 棒。 所谓西门子法,也被称作三氯氢硅氢还原法 , 正在还原炉内生长的多晶硅硅棒照片示于图 1。 是一种在还原炉 内通过发生化学反应来生成多晶 收稿 日期 :2010—2—10 作者简介:李世振(1947一),男,高级J二程师。1968年至 2007年在东方电机厂从事水轮机调速器调试、发电机励磁系统tRit+工作, 200

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