约束阴极微弧氧化放电特性研究.PDFVIP

第 59 卷 第 8 期 2010 年 8 月 物 理 学 报 Vol. 59, No. 8, August, 2010 1000-3290 /2010 /59( 08) /56 13-07 ACTA PHYSICA SINICA 2010 Chin. Phys. Soc. 约 束 阴极 微 弧 氧 化 放 电特 性 研 究 *  张欣盟 田修波 巩春志 杨士勤 ( 哈尔 滨工业 大学现 代焊 接生产 技术 国家重 点实 验室, 哈尔 滨 15000 1) ( 2009 年 5 月 31 日收到; 2009 年 9 月 2 1 日收到 修改稿) 利用 Na SiO -KOH 溶液体系, 以工业纯铝为基体材料对约束阴极微 弧氧化 的放 电特性进 行了研 究. 考 察了恒 2 3 压模式下 电极距离对氧化电流、电位分布及起弧 电压的影 响, 并对 电极距离与微弧氧化 电能利用率 间的关 系进行 了分析. 结果表 明: 对于阴阳极等约束条件下, 随阴阳极距离加大, 工作 电流逐渐减小. 而对于仅约束阴极情况, 工 作电流随着阴阳极间距增加而增大. 这是 由于增加阴阳极 间距 时, 虽然 约束 阴极 正下方试样表 面的电场强度降 低, 工作 电流减小, 但远离约束 电极处, 阳极表面 电场强度却增加, 工作 电流增大. 起弧 电压随电极间距离的增大而 升高, 但阳极表面 电场强度几乎保持不变. 微 弧氧化 陶瓷层 厚度 由处理中心沿半径 向外逐渐变 薄, 且 中心处陶瓷 膜厚度随电极距离的增大迅速减小, 电能利用率随之降低. 关键词: 微弧氧化, 约束阴极, 放 电特性, 电极间距 PACC: 5275R, 5280W, 9420S 学者进 行 了大量研 究, 但无论 是大功 率 电源 的开 1. 引 言 发, 还是 电解液、工艺参数 的优化, 目前能够处理的 2 最大面积也仅为 3—4 m , 且大功率 电源 的开发和 微弧氧化 ( micro-arc oxidation, MAO) 是一种利 使用大大增加 了该技术 的成本; 而 电解液、工艺参 用等离子体增强 电化学方法在有色金属表面原位 数的优化不具备普适性, 因微弧氧化技术所制备的 生成陶瓷层的表面处理新技术[ 1] . 从 Betz 发现微弧 膜层性能与所采用 的溶液体系、浓度 以及工艺参数 放 电现象到现在的几十年 时间里, 人们对微弧氧化 密切相关, 电解液、工艺参数的优化仅 能在特 定 的 技术进行了大量的研究, 并已成功实现了 Al, Mg, Ti 溶液体系及工艺条件 下实现, 因此将会影 响到所制 等金属及其合金表面 防腐、耐磨[ 2 — 6 ] 及各种功能化 备膜层的功能和质量. 从 目前 的研究和应用来看, 膜层[ 7— 10 ] 的制备. 而且此技术装置简单, 便于操作, 微弧氧化技术无法实现对大尺寸工件的处理, 已成 电解液对 环境污染 小, 制备 的膜层与 基体 结合力 为限制其工业化推广的瓶颈之一. 为此人们采用屏 强, 近年来在航空、航天、机械、电子、装饰等领域得 蔽阳