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高级氧化技术-8-其它技术.ppt
高级氧化技术 -8-高新应用技术 处理有毒有机污染物的 高级氧化技术 1、Photo-fenton反应 Photo-fenton反应 Fe2+/H2O2/Vis体系降解X3B 实验结果 实验结果 杂多酸光催化 杂多酸结构 杂多酸降解有机污染物实例 杂多酸光催化原理 杂多酸光催化 处理水体中有毒金属离子/回收贵金属 杂多酸盐光催化 均相杂多酸光催化的缺点： ☆ 强酸性环境 ☆ 催化剂难以回收 3、酞菁光敏化降解有机污染物 酞菁结构与光谱 原理 * 高级氧化技术(Advanced Oxidation Process, AOP) ----以羟基自由基为主要氧化剂的氧化过程 2、杂多酸光催化 3、酞菁光敏化 反应原理 K=0.077(min-1) K=6.26×10-4(min-1) K=0(min-1) 0.082 40 0.115 30 0.143 25 0.192 20 0.991 47 1.029 48 0.287 15 0.996 38 1.025 38 0.471 10 1.005 27 1.027 28 0.794 5 1.014 16 1.026 17 0.988 0 1.019 0 1.026 0 Fe2+/H2O2 t3(min) H2O2 t2(min) Fe2+ t1(min) Fenton反应——光的影响 最佳pH值为3.0！ 最佳H2O2浓度为2.0mM Fe2+浓度的影响 早期的多酸化学认为多酸是由无机含氧酸（如硫酸、磷酸、钨酸、钼酸等）经缩合形成的缩合酸。 由同种含氧酸根离子缩合形成的多酸阴离子(如MoO42-→Mo7O246-，WO42-→W7O246-)，其酸叫同多酸 。 由不同种类含氧酸根离子经缩合形成的多酸阴离子称为杂多阴离子(如WO42-+PO43-=PW12O403-)，其酸叫杂多酸(heteropolyoxometalate, POM) 。 PW12O403- 杂原子与中心金属原子数目 之比为1:12的Keggin型是最为常见的结构 Chem. Commun., 2001, 1141 磷钨酸的吸收光谱 X3B e-…h+ Chem. Soc. Rev., 2001, 30, 62 HPMo HGeW HSiW HPW 分子式 简写 H3PMo12O40 H3GeW12O40 H3SiW12O40 H3PW12O40 分子式 350nm 3.43V -0.11V 磷钼酸 350nm 3.56V 0.018V 锗钨酸 350nm 3.60V 0.057V 硅钨酸 350nm 3.76V 0.221V 磷钨酸 激发 波长 激发态单电子还原电位 基态单电子还原电位 杂多酸 Environ. Sci. Tech., 2005, 39, 4242 Photocatalytic Reduction and Recovery of Mercury by Polyoxometalates Environ. Sci. Tech., 2005, 39, 4242 磷钨酸和磷钨酸钾的红外光谱图 电子清除剂的影响 电子清除剂加快反应的原理 酞菁为一类大环化合物，可被看作是四氮杂卟啉的衍生物。 环内有一空穴，直径约为2.7×10-10 m，可以容纳铁、铜、镍、 钙、钠、镁、锌等许多金属离子，形成金属酞菁。 *
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