光学材料亚表面损伤表征方法研究.pdfVIP

第 34卷第6期 通 化 师 范 学 院 学报 (自然科学) Vo1．34№6 2013年 12月 JOURNALOFTONGHUA NORMALUNIVERSITY Dec．2013 光学材料亚表面损伤表征方法研究 崔 舒，刘成有，汉 语，徐井华，张 勇 (通化师范学院 物理学院，吉林 通化 134002) 摘 要：亚表面损伤的精确表征有助于全面掌握光学元件研磨后的亚表面损伤特征，是确定后续抛光时间和加工程序、提 高研磨加工效率的切实依据．该文首先从 目前比较常见的几种亚表面损伤测试技术出发，简要阐述各种测试技术的实验原理， 综合实验结果分析了各种方法对亚表面损伤表征的研究状况，并对截面法在K9光学玻璃亚表面损伤方面的应用进行了实验对 比研究，对比分析 了研磨粒径与裂纹最大深度间的关系． 关键词：亚表面损伤；光学材料；表征方法 中图分类号：0469 文献标志码：A 文章编号：1008—7974(2013)o6—0021—03 光学材料伴随着光学学科的飞速发展受到的关 恒定化学蚀刻速率法原理：光学材料浸入蚀刻液 注与 日俱增，而其在民用工业、航空航天方面的广泛 后，保持温度和浓度恒定，蚀刻速率只受蚀刻用化学 应用也对光学材料 自身的表面质量提出了更高的要 试剂和工件的接触面积、光学材料表面的化学势的影 求．众所周知…，广泛用于光学材料的加工过程会 响．蚀刻开始时，表面与蚀刻化学试剂接触面积较大， 无可避免的在光学材料表面引入降低其性能的亚表 表面化学势大，结果蚀刻速率较大，当蚀刻继续进行， 面损伤和缺陷，如划痕、裂纹、残余应力和杂质等等， 接触面积和表面化学势变小，蚀刻速率随之减小，最 而这将最终影响光学系统的综合性能，因此，定量测 后蚀刻达到基体部分，化学蚀刻速率保持恒定 J． 量光学材料亚表面损伤的深度和分布对研究光学材 化学蚀刻速率法属于破坏性检测方法，其优点 料的损伤形成和优化加工，以及改善光学材料的表 是直观、容易操作、成本低，在亚表面损伤测量中应 面质量具有重要意义． 用广泛．但是该方法受外界条件影响较大，而且蚀刻 准确测量亚表面损伤深度是高效去除亚表面损 反应过程不容易控制，导致测量结果误差较大，精度 伤层的基础．目前，亚表面损伤的测试方法主要包括 不高，因此具体实验条件对蚀刻结果的影响是 目前 破坏性检测方法和非破坏性检测两种．破坏性的检 研究的重点． 测方法 包括恒定化学蚀刻速率法、截面显微法、 1．2 磁流变抛光法 角度抛光法、磁流变抛光法等，非破坏性检测方法包 磁流变抛光法利用磁流变抛光液在磁场中的流 括 白光干涉法 、超声显微成像法、散射扫描层析法、 变性对工件进行抛光，其理论基础涉及电磁学、流体 x射线检测法等．本文将以几种重要的亚表面损伤 动力学、分析化学几个方面．磁流变抛光液由抛光轮 测试方法为例，对其原理和实验测试结果进行综合 带入抛光区域，在高强度梯度磁场的作用下，原本磁 分析，并对截面显微法在 K9光学玻璃亚表面损伤 矩随机排列的磁敏颗粒被磁化而排列成链，形成柔性 方面的应用进行了实验对 比研究． 抛光膜．非磁性抛光颗粒在磁力作用下析出，分布在 1 光学材料亚表面损伤测试原理及对比分析 柔性抛光膜表面，见图lJ，在抛光轮的带动下抛光 1．1 恒定化学蚀刻速率法 颗粒随抛光膜一起高速切过工件从而实现剪切去除． + 收稿 日期：2013—10—25 作者简介：崔舒 (1983一)，女，吉林通化