直拉单晶炉 温度梯度与单晶生长 热场的调整.pptx

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直拉单晶炉 温度梯度与单晶生长 热场的调整

; (1)热场的概念 热场也称温度场。热系统内的温度分布状态叫热场。煅烧时,热系统内的温度分布相对稳定,称为静态热场。在单晶生长过程中,热场是会发生变化,称为动态热场。 单晶生长时,由于不断发生物相的转化(液相转化为固相),不断放出固相潜热,同时,晶体越拉越长,熔体液面不断下降,热量的传导、辐射等情况都在发生变化,所以热场是变化的,称为动态热场。; (2)温度梯度的概念 为了描述热场中不同点的温度分布及分布状态,下面给大家介绍一个“温度梯度”这个概念。 温度梯度是指热场中某点A的温度指向周围邻近某点B的温度的变化率。也即单位距离内温度的变化率。; 如下图所示,A点到B点的温度变化为T1-T2 ,距离变化为r1-r2 。那么A点到B点的温度梯度是: 通常用 表示在 r 方向上的变化率。; 显然两点间的温度差越大,则 越大,则温度梯度越大,反之,两点间温度差越小,则 越小,则温度梯度越小,如果 说明由A点到B点温度是升高的,如果 说明由A点到B点的温度是下降的。;; 然后沿着轴线上某点沿着径向测量,发现温度是逐渐上升的,加热器中心温度最低,加热器温度最高,成抛物线变化,它的变化率称为径向温度梯度,用 表示。;(4)晶体生长时的温度梯度 单晶硅生长时,热场中存在固体、熔体两种形态。 温度梯度也有两种: 晶体中的纵向温度梯度 和径向温度梯度 。 熔体中的纵向温度梯度 和径向温度梯度 。 这是两种完全不同的温度分布,但是最能影响结晶状 态的生长界面处的温度梯度 。;热场的径向温度梯度,包括晶体 、熔体 、固液交界面 三种晶向温度梯度。 ①晶体的径向温度梯度 是由晶体的纵向、横向热传导,表面辐射以及在热场中新处的位置决定,一般来说,中心温度高高,晶体边缘温度低。 ②熔体的径向温度梯度 主要是靠四周的加热器决定的,所以中心温度低, 靠近坩埚处温度高,径向温度梯度总是正数。 ;③ 在晶体生长过程中,结晶界面处的径向温度梯度 是变 化的,将晶体纵剖,作结晶界面显示,如下图所示。 ;总之,合理的热场的温度分布需要满足以下条件: ①晶体中纵向温度梯度 足够大,但不能过大,保证晶体生长中有足够散热能力,带走结晶潜热。 ②熔体中的纵向温度梯度 比较大,保证熔体内不产生新的晶核,但是,过大容易产生位错,造成断苞。 ③结晶界面处的纵向温度梯度 适当的大,从而形成必要的过冷度,使单晶有足够的生长动力,不能太大,否则会产生结构缺陷,而径向温度梯度要尽可能小, ,使结晶界面趋于平坦。; 从示意图看出,以加热器中心线为基准,中心温度最高,向上和向下温度逐渐降低,它的变化率称为纵向温度梯度,用dy/dT表示。加热器径向温度内表面,中心温度最低,靠近加热器边缘温度逐渐增加,成抛物线状,它的变化率为径向温度梯度,用dx/dT表示。 ;晶体生长时,单晶硅的纵向温度梯度粗略地讲:离生长界面越远,温度越低,即 0。如图M-TA段所示。TA为结晶温度,虚线表示液面。;各种不同温度梯度 及晶体生长情况;热场的调试与配制; 目前的热场配置大部分为内梯形,内梯形又有高罩和矮罩之分。保温罩绝大部分采用高纯石墨制成,也可在第二层加一层钼薄板。国外通常采用短平罩热场,加保温盖,两层石墨中间放碳毡。碳毡保温性能好,节省能源。热场组成比较简单,操作方便。 ; 石墨托碗有平底(杯形)和半球形,目前趋向于采用平底托碗。托碗厚薄影响热场稳定性。厚托碗热惯性大,热场反应慢,温度较稳定,薄托碗热惯性小,热场反应快,温度容易调整。 ; 好的热场正拉晶过程顺利,拉出的单晶电阻率均匀性好,结构缺陷少,质量高。不好的热场下拉晶操作复杂,拉出的单晶电阻率均匀性差,结构缺陷较多,质量较差。在不好的热场下拉晶,还很不容易成单晶或在拉晶中途产生大量结构缺陷或变成多晶。这都是由于热场纵向梯度过小造成的。 ; 由热系统组成的热场是一个有机的整体,调整纵向温度梯度时,径向温度梯度也会变化。同样的热场,在不同拉晶条件下纵向温度梯度也不相同;真空条件下,纵向温度梯度较小的热场,气氛条件下纵向温度梯可能很大,流动气氛下更大。减

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