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需求面 供给面 社会、经济、和政治的 长期发展趋势 科学和技术的长期发展趋势 决定优先领域的次序 有发展潜力RD领域 整体评估社会 和经济效益 社会、经济与文化 资源的优势和限制 科技研发资源 和能力的优势 与限制 研发和技术开发的可能性 创新机会与瓶颈 市场潜力 技术实现 科研需求 技术开发需求 科学研究的资源和能力 技术开发的资源和能力 社会、经 济与环境 方面特定 需求形成 图 技术预见的系统分析架构 技术预见的四种研究 技术跟踪研究 技术比较研究 技术预测研究 技术评估研究 信息分析研究人员 图 全球科技跟踪网站 图 “数据挖掘”领域主题增长速度及研究力量分布 Cavendish Lab., Cambridge Univ., UK Inst. of Sci. Ind., Osaka Univ., Japan nanostructured materials Silicon Electrotech. Lab., Ibaraki, Japan Inst. of Ind. Sci., Tokyo Univ., Japan Elemental semiconductors Atomic force microscopy Dept. of Electr. Eng., Minnesota Univ., Minneapolis, MN, USA Cavendish Lab., Cambridge Univ., UK Inst. of Sci. Ind. Res., Osaka Univ., Japan Cavendish Lab., Cambridge Univ., UK Scanning tunnelling microscopy sputter etching Lithography Semiconductor quantum dots Inst. of Sci. Ind. Res., Osaka Univ., Japan Naval Res. Lab., Washington, DC, USA etching Gallium arsenide Masks NTT Basic Res. Labs., Kanagawa, Japan Adv. Res. Lab., Hitachi Ltd., Saitama, Japan photolithography semiconductor growth 原子力显微学 硅 扫瞄隧道显微学 纳米结构材料 砷化镓 蚀刻 掩膜 III-V 半导体 电子束光刻 半导体量子点 光刻 半导体生长 溅射剥离 单质半导体 图 纳米技术领域：主要研究方向相关网络及重要研究机构 Japan Silicon Elemental semiconductors Atomic force microscopy USA nanostructured materials electron beam lithography Atomic force microscopy Germany nanostructured materials Atomic force microscopy electron beam lithography UK electron beam lithography nanostructured materials Scanning tunnelling microscopy South Korea Silicon Elemental semiconductors sputter etching France nanostructured materials Scanning tunnelling microscopy Atomic force microscopy China nanostructured materials Scanning tunnelling microscopy Silicon Russia nanostructured materials III-V semiconductors Gallium arsenide Switzerland Atomic force microscopy nanostructured materials Scanning tunnelling microscopy Italy nanostructured materials Atomic force microscopy Silicon Sweden nanostructured materials electron beam lithography Atomic force microscopy Netherlands Silicon Elemental semico