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日本的氦质谱检漏仪现状 初明璋 (中国科学院电工研究所，北京100080) 摘要：随着半导体工业的迅猛发展，对真空设备的真空度要求越来越高，对检测真空漏率 的氦质谱检漏仪的技术指标也在相应的提高。处在亚洲最大的真空设备生产中心，日本的 氦质谱检漏仪生产商在完善原有产品的同时，还在向商灵敏度、便携式、自动化、宽量程、 无油系统等方向发展。本文主要介绍日本的氦质谱检漏仪生产商及其产品，仅供国内的同 行参考。 关键词：氦质谱检漏仪日本真空发展 中图分类号：TB752文献标识码：E 1 引言 随着半导体工业的迅猛发展，对真空设备的真空度要求越来越高，对检测真空漏率的 氦质谱检漏仪的技术指标也在相应的提高。处在亚洲晟大的真空设备生产中心，日本的氦 质谱检漏仪生产商在完善原有产品的同时，还在向高灵敏度、便携式、自动化、宽量程、 无油系统等方向发展。在这里，本文主要介绍日本的氦质谱检漏仪生产商及其产品，仅供 国内的同行参考。 2氦质谱检漏仪原理 氦质谱检漏仪是用氦气做示漏气体的质谱检漏仪，它由离子源、分析器、接收器、真 空系统、电子线路及其它电气部分组成。 目前的氦质谱检漏仪基本上都是磁偏转型的。以1809的磁偏转型仪器为例，其原理 如图1所示。在质谱室的离子源N内气体被电离成离子，在电场作用下离子聚集成束，并 以一定的速度经由缝隙s．进入磁分析器，在均匀磁场的作用下，具有一定速度的离子柬将 按圆轨迹运动。其偏转半径可按下式计算 浮：—旦(Mu)17。 r1 o 式中R一偏转半径[cm] 。 M一离子荷质比，即离子质量与电荷 × 数之比 u一离子加速电压[V] tt一磁感应强度[h／m] 图1 1804磁偏转型氦质谱检漏仪原 由上式可知，在一定的H、u条件下，不同 理图 M的离子其运动半径R不同。对于氦质谱检漏 仪．可以调节加速电压u使氦离子束％恰能通过缝隙s。到达收集极K而形成氦离子流。再 利用弱电流检测设备，使之在输出仪表与音响装置上反映出来，这样就实现了氦质谱检漏 仪的检漏功能。 氦质谱检漏仪的主要参数有： · 灵敏度及其校准 ● 反应时间、氦气清除时间 50 ● 工作真空、极限真空与节流阀处的抽速 3日本株式会社ULVAO JAPAN 株式会杜ULVAC，原名日本真空技术林式会社(ULVACLTD)。公司的标忐ULVAC In 来源于英文UltimateVacuum(即：真空的极限)的字母缩写，它体现了公司的宗旨： 追求真空所提供给我们的无限可能性。 它创建予1952年8月，至今已发展成为以株式会社ULVAC为中心的，拥有36家相关 企业的综台性企业集团。其总部设在日本茅崎，集团职工人数3800名，资产89亿5000万 日元(至2004年5月)”j．销售额达1500亿日元的规模，成为日本真空行业晟大的企业 集团。其产品遍厦全世界各地近100多个国家和地区。 围绕着初创之时的基础．以真空技术为棱心，在电子器件生产设备拄术、电子器件制 造技术、尖端材料技术、表面分析技术、设备控制技术等方面不断获得发展，井在真空设 备机器制造、材料镀膜、分析仪器、销售服务等四个领域为社会作出了自己的贡献。 10T700 株式会社ULVAC生产的氨质谱检漏仪有HELIOJl100系列、HEI，IOT300系列和HEl 系列，其中HELIOTl00系列是他的早期产品，现在普遍使