铜钴纳米多层膜的制备结构及巨磁阻性能的研究.pdf

铜钴纳米多层膜的制备，结构及巨磁阻性能的研究 113 铜钴纳米多层膜的制备，结构及巨磁阻性能的研究 胡滢，曹为民，印仁和，曾绍海，王慧娟 (上海大学理学院化学系，上海200436) 多层膜的工艺条件，为得到优良的多层膜巨磁阻材料，镀液体系中加人了自制的添加剂．并用扫描电镜(sEM)表征了多层膜的断面 明多层膜具有超晶格结构用物性测量系统(PPMs)测试了cn／cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能，GMR值达到52％ [关键词] 电沉积c∥cu纳米多层膜x射线衍射巨磁阻效应 andthe of Electrochemical Structure， DepositionStudy of Giant Co／Cu MagnetoresistenceMllltilayers HU Ying，CA0Wei—mjn， ⅥNRen—he，zENGsh∞一hai，YUwen—qi“g，wANGHuj—juan 0f (Seh001 200436，China) Science，Shanghai Universi‘y，Shanghai method boric Abstrac：t：Co／Cu double—bath acid multilaye碍were containing preparedbyusing conditioIls orderto havebeen we地studied，inget muItiIayer，addmvesstu出ed，the technol0舀cal 900d of wasex眦ined di‰c廿0n intheLxRDindicatedthatthe咖lti— pr0脚emultiplayer bysEM，respectively，twopeaks intheMXRD indicatethatt}le B stmcture，satellite h鹳fo聊ed playerh船periodic peaks panems mulmayer t11at arrived wasmeasuredPPMshaB 52％． addition，GMR by stnlcture，in Keywords：Electmcry咖Uization，Cobal∥C叩permultilayers，X—ray 国外文献也未见报道 1 前言