Cu／LiF团簇基多层纳米膜的结构研究.pdfVIP

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2018-01-02 发布于广东
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Cu／LiF团簇基多层纳米膜的结构研究.pdf

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「原子与分 f- 物理学报 Supplemcm 1，99h985年T7)A CHINESEJOURNALOFATOMICANDMOLECULARPHYSICS 1.1，1998 Cu/LiF团簇基多层纳米膜的结构研究’ 巨新中国科学院高能物理研究所北京 10003 摘要用蒸发/冷凝方法制备Cu/LiF团簇基多层膜，用广延x-r线吸收精细结构(EXAFS) 和慢正电子束进行研究。与相应的体材料相比，虽然未发现Cu-Cu健长有明显收缩，但其配位数减少，结构无序性增加。同时讨论了制备条件时其徽结构的影响团簇是原子或分子的聚集体，其结构特性与其它物质形式不同lll01979年，G.Apai 等人[[21用EXAFS研究了铜和镍团簇，观察到最近邻原子间距离的收缩;几年后，P.A. Montano等人(31研究了液氦温度下的铜团簇，改进了前者的结果，并观察到了X射线吸收近边结构的变化。据此，我们提出了液滴表面应力模型，合理地解释了上述实验现象队习。所谓团簇基纳米膜，由纳米尺度的团簇或团簇集团构成。关于这方面的研究鲜见报道[[61。本文介绍了用EXAFS和慢正电子束对Cu/LiF团簇基多层纳米膜的初步研究结果。实验样品用蒸发/冷凝方法制袭 I样品制备条件协1z分压:22P.;蒸发时间:60e; 备f61简述如下，Cu和LiF粉 LiF团簇尺寸 :Inn 末置于液氦真空窒中，用电阻加衬底衬底温度加热电流铜团簇尺寸热交替蒸发，最终随机沉积在衬样品 (K) A ) ( (TEMmu) 底上。作为比较，还用电镀方法 A PTFE 77 4 8 一丘 5 B PTFE 300 8 0 加月 4 8 丘 0 在PTFE上制备了铜膜。制备 C silicon 77 条件见表to D silicon 300 8.0 0 2 刀 EXAFS实验在北京同步辐射装置的4WIB束线的XAFS站上进行，透射模式、Cu- K边，标准样品为单晶铜，用EXCURV92程序进行数据处理。单能慢正电子束实验在中国科技大学进行[71，人射能量。一20KeV，用高纯锗探测器测量多普勒谱，能量分辨为本课颐得到国家白然科学撰金资助 278 12Kev(Sr),每个谱的计数至少为 1x10,，分析程序为VEPFIT. 2 EXAFS 祥品的径向分布函数见图 I。如表2所示，样品A的 Cu-Cu键长略有收缩，但远远小于自由团簇的收缩值[(2,31 P 。， - 基于液滴表面应力模型(as1团簇的表面应力为