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高压静电场对黄瓜生长发育的影响 宋颖琦 于广建 (东北农业大学 哈尔滨150030) 摘要无论黄瓜种子时期是否经过静电场处理，苗期经适宜的静电场处理对植株生长均有促 进作用，而且表现在后期第一雌花节位降低，雌花数目增加，IjfJ和II：o组优势表现最为明显， 这说明种子时期经电场处理后可以适当减少苗期在电场中的处理时间．从形态解剖学上观察可 以看到经高压静电场处理植株叶片中海绵组织和栅栏组织厚度增加，细胞体积增犬，气孔密度 减小，茎部细胞生长和分裂的速度加快，髓腔内的薄壁细胞体积增走． 关键词 高压静电场；黄瓜：解剖结构 电场是自然界客观存住的物质，地球上生存的动、植物住长期的进化过程中，其形态、 结构和生长发育习性不仅对环境电场建立了一定的适应能力．同时它的许多生命活动，如 机体内的物质运输、能量转换、信息的传递等，也无一不需要电荷的运动来完成。高压静 Electrostatic 电场(HighVoltage Field)作为一种人1综合效应场，不仅具有离子柬的作用，同 时又存在电磁辐射和恒定电场的效果n从八十年代起，国内外的科研J．作者开始用适宜 的高压静电源产生与植物体相适应的高j矗静电场，刚F-促进植物种子萌发等多方面的研究， 但由于作用机理尚未清楚，高压静电源啦以统一，试验周期K等多方面容疆条件的限制， 对于植株体生长发育的影响研究较少。本项mf究是以黄瓜的幼苗作为试材，研究在高压静 电场下黄瓜植株外部形态指标及解剖结均的变化以及对植探!i三艮后}cfj和果实形成的影响。 1 试验材料及方法 1．1试验材睾斗与装置 供试品种为K春密刺(Changchun Mici)，由东北农业大学园艺系提供。试 验装置如图1所示，幼苗的顶部安装一 个金属网电极，在接地金属板与金属网 之间形成分布较为均匀的静电场，植株 图1 苗期处理装置 生长在该静电场中，随生长发育的不同 1高压静t乜源2金属l叫电板3升降调节杆 阶段，调17金属网电汲的高度(要求金 4立架5接地金属扳 installationof Fig Thetremment seedlingstage ElectroslatlcField2Metalnelelectrod 属网距植株生长点1m远)。 HighVollage 3 4 5 Metaltothe Regulatorpole Supportpole plate ground 1．2试验设计与方法 试验设计如表1所示，将I组(种子蹦期术经静电场处理CK组)和¨组(种子时期经250 K7．5kv．rain-m“静电场处理)按常规的方法浸种、催芽，n：相同的条件下进行栽培管理，分 】Od取样涧奄，调奄3次。植株从静电场中取…后按不同处理定值r田问，调查后捌植株 生长发育帚『开花结果状况(从5月29H起，每隔2d调奄一次，jI调奄6次)，每处理设3 玖重复，随饥取样。苗州雨I生长后期形态指标以及雌花‘11Hi、雌花数日丁每次取样时测量， 每个处理随机抽取5株，求平均值；7i蜡切片法，t做显微摄影。 387 表l 高压静电(HVEF)苗期处理试验设计 —— ．!生! 处理组 I 1I 代码 I cK I lO I 20 i 3