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软件工程专业优秀论文 扩散在线GOI改善 关键词：可靠性测试 薄栅介质 抗击穿能力 介质膜 摘要：GOI(Gate Oxidation Integrality)是用来对栅氧质量完整性和可靠性测试的一种重要手段，主要是评价薄栅介质在应力作用下抗击穿能力。根据施加应力不同又可以分为QBD(在介质膜上施加恒定电流J测试其击穿)和VBD(在介质膜上施加Ramp电压测试其击穿)等类型，评价GOI结果的主要参考指标为测试样品的失效密度D0。 　　目前我们扩散部(华润上华公司)在线GOI监控方式频频失效，为了整体提升扩散GOI并最终达成GOI VBD D0amp;lt;1，即零缺陷的目标，我们进行五个方面的优化工作： 　　1.衬底片 　　由原来的CZ硅片更改为Hi硅片，试验的结果表明Hi硅片的GOI优于CZ的。这样做能够更准确地监控在线GOI的情况； 　　2.颗粒更换了清洗设备的过滤器(0.15μm)，并开始测试0.15μm尺寸的颗粒，使在线的颗粒有了明显的下降； 　　3.清洗工艺菜单 　　更改了清洗菜单中SC2和各酸液后的冲水温度； 　　4.栅氧菜单 　　在现有的生产菜单中经过试验选择出G3231(氯气氧化)菜单为最佳菜单； 　　5.GOI测试模块 　　优化了测试模块，选择更接近现实工艺的Polycide为在线GOI的工艺模块。 　　通过以上五个方面的工艺优化改善了GOI失效的问题，同时针对清洗设备进行改进：加装0.05μ m的纯水过滤器和IPA甩干系统，这样一来大大提高了在线GOI的良率，达到零缺陷的目标。 正文内容 GOI(Gate Oxidation Integrality)是用来对栅氧质量完整性和可靠性测试的一种重要手段，主要是评价薄栅介质在应力作用下抗击穿能力。根据施加应力不同又可以分为QBD(在介质膜上施加恒定电流J测试其击穿)和VBD(在介质膜上施加Ramp电压测试其击穿)等类型，评价GOI结果的主要参考指标为测试样品的失效密度D0。 　　目前我们扩散部(华润上华公司)在线GOI监控方式频频失效，为了整体提升扩散GOI并最终达成GOI VBD D0amp;lt;1，即零缺陷的目标，我们进行五个方面的优化工作： 　　1.衬底片 　　由原来的CZ硅片更改为Hi硅片，试验的结果表明Hi硅片的GOI优于CZ的。这样做能够更准确地监控在线GOI的情况； 　　2.颗粒更换了清洗设备的过滤器(0.15μm)，并开始测试0.15μm尺寸的颗粒，使在线的颗粒有了明显的下降； 　　3.清洗工艺菜单 　　更改了清洗菜单中SC2和各酸液后的冲水温度； 　　4.栅氧菜单 　　在现有的生产菜单中经过试验选择出G3231(氯气氧化)菜单为最佳菜单； 　　5.GOI测试模块 　　优化了测试模块，选择更接近现实工艺的Polycide为在线GOI的工艺模块。 　　通过以上五个方面的工艺优化改善了GOI失效的问题，同时针对清洗设备进行改进：加装0.05μ m的纯水过滤器和IPA甩干系统，这样一来大大提高了在线GOI的良率，达到零缺陷的目标。 GOI(Gate Oxidation Integrality)是用来对栅氧质量完整性和可靠性测试的一种重要手段，主要是评价薄栅介质在应力作用下抗击穿能力。根据施加应力不同又可以分为QBD(在介质膜上施加恒定电流J测试其击穿)和VBD(在介质膜上施加Ramp电压测试其击穿)等类型，评价GOI结果的主要参考指标为测试样品的失效密度D0。 　　目前我们扩散部(华润上华公司)在线GOI监控方式频频失效，为了整体提升扩散GOI并最终达成GOI VBD D0amp;lt;1，即零缺陷的目标，我们进行五个方面的优化工作： 　　1.衬底片 　　由原来的CZ硅片更改为Hi硅片，试验的结果表明Hi硅片的GOI优于CZ的。这样做能够更准确地监控在线GOI的情况； 　　2.颗粒更换了清洗设备的过滤器(0.15μm)，并开始测试0.15μm尺寸的颗粒，使在线的颗粒有了明显的下降； 　　3.清洗工艺菜单 　　更改了清洗菜单中SC2和各酸液后的冲水温度； 　　4.栅氧菜单 　　在现有的生产菜单中经过试验选择出G3231(氯气氧化)菜单为最佳菜单； 　　5.GOI测试模块 　　优化了测试模块，选择更接近现实工艺的Polycide为在线GOI的工艺模块。 　　通过以上五个方面的工艺优化改善了GOI失效的问题，同时针对清洗设备进行改进：加装0.05μ m的纯水过滤器和IPA甩干系统，这样一来大大提高了在线GOI的良率，达到零缺陷的目标。 GOI(Gate Oxidation Integrality)是用来对栅氧质量完整性和可靠性测试的一种重要手段，主要是评价薄栅介质在应力作用下抗击穿能力。根据施加应力不同又可以分为QBD(在介质膜上施加恒定电流J测