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厚样品电子断层成像中的电子透过率非线性效应

第45卷第6期 西安 交通大学 学报 V01.45No.6 7 XIAN UNIVERSITY 2011年6月 OF JIAOTONG JOURNAL Jun.201l 厚样品电子断层成像中的电子透过率非线性效应 曹猛,李瀛台,张海波,王芳 (西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,710049,西安) 摘要:为提高透射电子显微术中厚样品电子断层成像的质量,研究了电子透过率与样品质量厚度 之间的非线性关系对厚样品电子断层成像的影响.在微米量级厚样品电子透过率实测结果的基础 上,通过计算机模拟生成系列投影像并进行了图像重构.模拟结果表明,电子透过率的非线性会在 重构结果中产生伪结构,投影值偏离量随投影位置的变化率与伪结构相关.进一步评价了样品在不 同倾斜角度范围时电子的非线性透过率对图像重构质量的影响,发现这种影响随样品倾斜角度增 大而增强,并有可能降低图像重构的质量. 关键词:断层成像;透射电子显微术;非线性效应;厚样品 TheNonlinearEffe}ctofElectronTransmissioninElectron forThick TomographySpecimens CAO Haibo,WANG Yingtai,ZHANG Fang Meng,LI for ElectronicsandDevicesofthe of (KeyLaboratoryPhysical MinistryEducation, Xi’an JiaotongUniversity,Xi’an710049,China) electrontransmission Abstract:Nonlineareffectsbetween andmassthicknessonthe of quality electron thick arestudiedto the oftheETfor tomography(ET)forspecimens improvequality thick intransmissionelectron seriesof are sim— specimens microscopy.Aprojectionsproducedby thenusedto basedonelectrontransmission microns- ulationand reconstruct the images through thick isfoundfromsimulationthatartifactsdueto existintherecon— specimens.It nonlinearity

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