低温光学设计中的镜面变形处理.pdfVIP

第9卷 第8期 2009年4月 科 学 技 术 与 工 程 Vo1．9 No．8 Apr．2009 1671--1819(2oo9)8-2156-0·4 ScienceTechnologyandEngineering ⑥ 2009 Sci．Tech．Engng． 一 般工业技术 低温光学设计中的镜面变形处理 陈永和 (中国科学院上海技术物理研究所，上海 200083) 摘 要 光学系统在低温下工作时，元件表面发生变形，系统性能下降，所以在设计阶段必须进行预估和处理。将元件的变 形分为热胀冷缩引起的变形和外力作用引起的变形，并根据各 自的特征讨论了相应的处理方法。 关键词 低温光学 曲面拟合 陡度法 面型处理 中图法分类号 TB133 TN21； 文献标志码 A 高分辨率高灵敏度是空间探测系统的发展方 胀冷缩会引起镜面变形，致使系统焦距发生变化， 向。对于红外探测系统，光机系统 自身热辐射引起 产生离焦等现象。这种镜面变形是规则的，平面变 的热背景辐射噪声是限制其探测灵敏度提高的关 形后仍然为平面，球面变形后还是球面，曲率半径 键之一。因此从 20世纪70年代开始，以美国为首 的变化量为△ =Rot,at。而对于非球面，以二次曲面 的发达国家开始研究低温光学技术，通过降低光机 为例，其方程可表示为 元件的工作温度来抑制热背景辐射噪声。 ，，2=2Ro+(e一1) (1) 光机系统工作于低温状态下时，由于材料的热 (1)式中R。为曲面顶点的曲率半径，e为二次曲面 胀冷缩，光机元件会发生变形，光学材料折射率也 的偏心率平方，也就是曲面的形状参数 (非球面系 会发生变化，这便造成光学系统在低温状态下的性 数)。对于曲面上任一点P0(。，)，有 能同常温下大不一样 。为了保证光学系统能在低 ，，2。：2R。。+(。z一1)，ez：2挚 +l(2) 温环境下正常工作，在设计阶段就必须充分考虑光 0 、 学镜面低温变形所带来的影响并进行相应的处理。 当温度变化 时，P0点变化到P ( ，Y。)点，相应 光学镜面低温变形可以分为两部分，一部分是 的有 热胀冷缩引起的变形；另一部分是重力和应力 (光 2 2 ： e1=—————一 +十l1 (3j) 机结构变形量不同产生的)引起的变形。两部分变 l 形具有不同的特点，对系统性能的影响也不同，因 P0点与P。点有如下关系： 此在设计 中应该采取不同的处理方法。 1= 0+ 0aAt，Y1=Yo+yoaAt，Rl=Ro+Roa3t。 代人(3)式有： 1 热胀冷缩引起的光学镜面变形及其处理 + )一2( + )(xo+ ) ： — —