高能量密度等离子体（HEDP）表面处理对Ni3Al氧化行为的影响研究.pdf

第六届全国青年腐蚀与防护科技论文讲评会论文集 高能量密度等离子体 (HEDP)表面处理 . 对Ni3AI氧化行为的影响① 马铁军 何业东 齐慧滨 朱 日彰 (北京科技大学北京腐蚀与防护中心，腐蚀、磨蚀与表而技术开放实验室，北京.100083) 摘 要 利用高能盆密度等离子体 (HEDP)对金属间化合物Ni,AI进行Y表面处理，获得了纳米级的微晶 层 该微晶层可以涌过提高Al,q优先形核位置和提AAl的向外扩散促进Ni,Al氧化时AI。的形成，消除丁 NiO相 关健词 Ni川，氧化 IIED 前 台 金x间化合物Ni3Al尽管其含AI量约25at%,但在高温环境中仍然形成Ni0/NiA1204/ A120:型的复杂氧化物，不能形成pl一的A1103保护膜eCT.Liu等」，对‘Ni3AI在10000CM期 氧化的研究表明，大尺寸晶粒的Ni3AI氧化形成富Ni的氧化物，小尺寸晶粒氧化形成富Al的 氧化物，原因是晶界密度的提高为A1提供了短路扩散通道。王福会等 ‘利用磁控溅射技术在 Ni3Al表面形成纳米级微晶涂层 在高温F促进了A1的扩散 使其氧化膜由NiA1,0q/AI,,Ojil 成，消除了NiO,提高了Ni3AI的抗氧化性能 这w-研究说明细化Ni3Al的晶粒可促进A1203的 形成。然而通过热处理或磁神溅射的方法使合金表面微晶化难度很大。本文探索应用一种新 型表面改性技术一高能量密度等离子体(HighEnergyDensityPlasma,HEDP)表面处理1在 Ni3AI表面形成了一层极薄的微晶层，研究其对N13Al高温氧化行为的影响 ‘ 2 实验方法 本研究采用定向凝固Ni3Al(Ni-24.OAI-0.05B)合金，线切割成13.5x8,lmm, 经7K砂纸 打磨到900，并经常规表面清洁处理 采HEDP方法u0」对试样进行表面改性，以获取表面 微晶层。 图1是HEDP装置示意图，由同轴等离子体枪、充放电控制系统、快速脉冲进气 阀、直空系统和样品夹持架等五部分组成 其原理是先将能量储存于电容器Cp,Cg内，打汁 脉冲电磁阀将高纯氨快速充入同轴等离子枪内通过触发方式使其电离，在内外电极问的电磁 力柞用 厂被决速喷出枪臼，最后轰击到样品表面，使样品表面快速加热和冷却，达到表面改 性的目的。还可以通过改变所作用的等离子体气休或电极材料来获得各种气相沉积薄膜的效 果 采用SEMTARAM TG-85热天平对未处理试样和经过HEDP处理的试样进行 10000C 的恒温氧化实验 试样在高纯氮中升温 在105P诚ladn)纯氧中进行氧化，氧化结束后在纯氛 中冷却至字温。对经HEDP处理的试样表血和氧化后的试样进行了TEM.SEM.AES和EDX 分析，以确定合金表面及氧化层的显微结构和组成 3.实验结果 图2是经HER 处理后Ni3A1表面结构的TEM观察结果 由图可见在合金表面形成了一层 致密的膜层，膜层很薄，由微晶组成，im粒尺寸约200mn,表明HEDP处理可以在Ni3A1表面 }mm纳来尺度的微晶层。图3是HEDP处理对Ni,Al在1000乍纯氧中氧化动力学的影响，11EDP 国家 自然科学纂金项 目，肠蚀科学国家重点实验宝资助项 口 199