国内外电化学整流的现状及发展趋势研究.pdfVIP

国内外电化学整流电源的现状及发展趋势 西安电力电子技术研究所 朱典旭 张大卫 张 炜 1前言 1948年普通晶体管的发明引起了电子工业革命，半导体器件首先应用于 小功率领域，如通讯、信息处理的计算机等01958年，从美国通用电气公司 研制成功第一个工业用的普通晶闸管开始，大大扩展了半导体器件功率控制 的范围。电能的变换和控制从旋转的变流机组、静止的离子变流券进入以电 力半导体器件组成的变流器时代，这标志着电力电子技术的延生。随著电力 电予技术和控制技术的不断发展，电力电子技术的应用已深入到工业生产和 社会生活的各个领城，其典型的用途包括:电化学、直流传动、交流传动、 电镀及电加工、电机励磁、中频感应加热、直流输电及无功补偿等，成为传 统产业和高新技术领域不可缺少的关键技术。 国内外电化学整流电源的发展是与电力半导体器件制造技术和电力电子 技术的发展紧密相关的。随着大功率半导体器件制造技术的不断进步，蓬勃 发展的我国有色、冶金、化工工业用的电化学用大功率整流电源亦取得了较 大的发展，尤其通过引进、消化、吸收国外大功率半导体器件的制造技术和 测试技术以及电化学整流设备的设计技术、制造技术和控制技术，便我国电 化学整流电源的设计制造水平迅速提高，整机的可幸性水平已达到国外同类 产品九十年代初期的先进水平，并完全可以替代进G,为此，本文将筒要介 绍国内外电化学整流电源的现状以及预期的发展趋势。 2整流机组的调压方案 目前，国内外电化学整流电源粉出直流电压的控制方式有两种，即大功 率二极管盈流机组的调压方式和大功率晶问管整流机组的调压方式。 2.1大功率二极管整流机组的调压方式 该调压方式的主调压采用调压变压器有载开关粗调，辅调压采用内附式 自饱和电抗界细调。 2小 1主调压方式 调压类型:多为自祸调压方式，即经济，又合理。 调压范围:一般为(5^-105%)UdN，下限考虑了整流柜宜流侧短路做均 流试脸的需要，上限则考虑了电源电压负波动时保证整流机组达到额定输出 电压盯d、。 调压级数:多采用连续有载调压。考虑设备制造及维修因素，级电压过 商影响开关电气寿命;级电压过低，开关动作频繁。国外有载开关的文流级 电压通常为3000^-4000伏及 以下 ;目前我国有载开关的交流级电压为1Z00- 2500伏及以下，可供选择的调压总级数通常为7,15,27和48级。通常传况 下，每级电压差，对于冶金、有色电解宜在系列正常运行电压的Z%-4%之 间，对于化工电解宜在1~3%之间。 2.1.2辅调压方式 辅调压主要采用自饱和电抗券来完成，此时饱和电杭器必须实现下列职 能: 在有载分接开关的直流级差电压范围内起细调作用;减少有载分接开关 的动作次数，延长其寿命和检修周期，其调压范围应大于有载分接开关的宜 流级差电压，通常不小于两级差电压，铝电解时还应不小于一个阳级效应的 电压;校正由于电网电压的波动引起的直流扮出的波动;校正机组间以及同 机组整流拒问负载分配的不平衡。 2小，稳流系统 本调压方式下整流电源的稳流控制是通过调节饱和电抗器的控制绕组以 及偏移绕组的电流来完成的，电路采用直流电流负反债的无差控制器，任何 网压和负载的波动在饱和电杭器调节范围内都能获得精确的闭环控制。 2.2大功率晶闸管整流机组调压方式 由于电化学生产过程中有时需要较低的工作电压，有时又需要较高的工 作电压，如果完全由晶闸管来调节系列工作电压，晶闸管将有时工作在深控 状态，将造成机组功率因数很低、谐波电流增大等现象，因此宜采用无载或 有载调压变压器实现粗调。无载抽头蔺单、投资省，通常可以具有Z5%.50 %、了5%的抢出电压抽头 ;而有载操作极其方便，通常以级数较少的有载调 压为好。 晶闸管的调压为无级调压。通过给定和反债信号的比较，将自动实现整 流 电源的调压和稿流，并且动态响应快，德流精度高。 3功率器件与保护器件 3.1功率器件 随着半导体器件设计和制造水平的不断发展，电化学整流电源用大功率 整流元件的发展亦日新月异。目前在国外大功率电化学整流电源中，已有采 用4时 (中100mm)硅片的大功率整流二极管或晶闸管的设备，如ABBIFuji等 公司，国内大功率电化学整流 电源多为果用3时 中〔了了皿)硅片的大功率整流 二极管或晶闸管的设备，如西安电力电予技术研究所、西安电力整流器厂、 九江整流器厂等。目前3时整流