材料表面技术精品教学（文 峰）第2章 固体表面的物理化学特性.pptVIP

海南大学材料与化工学院 文峰 回顾材料科学导论的内容 什么是固体？ 是指能承受应力的刚性物体。 1、表面分子（原子）的运动受缚性 固体表面的特性之一是表面分子(原子)的运动受到束缚．不能像液体分子那样自由移动。 2.1.1 固体理想表面和清洁表面 理想表面结构 理想表面结构是一种理论上的结构完整的二维点阵平面。 清洁表面实际上不会是完整表面，因为这种原子级的平整表面的熵很小，属热力学不稳定状态。 因此，清洁表面必然存在台阶结构等表面缺陷。如前所述，由LEED等实验证实许多单晶体的表面有平台、台阶和扭折。 台阶结构表示为： R（S）-[m(hkl)×n(h’k’l’)]-[uvw] 式中R表示台阶表面的组成元素；（S）为台阶结构；m表示平台宽度为m个原子列（晶列）；（hkl）为平台的晶面指数；n表示台阶的原子层高度；（h’k’l’）为台阶侧面的晶面指数；[uvw]为平台与台阶相交的原子列方向。 由表面原子的各向异性导致。 例如，当氧吸附在Pt(100)面上时，将生成（5×1）的表面结构，即把体向的面心立方转变成密排六方结构。 表面原子排列在垂直于表面的方向上存在平移周期性中断。 表面电子态 （1）外诱表面态 在表面处杂质与缺陷往往比体内多得多，在表面杂质和缺陷周围形成局域电子态。 （2）本征表面态 在清洁有序的表面，由于体内周期性中断所形成的局域电子态。 表面上的“悬挂键”可能形成本征表面态。 界面态是否出现，取决于相邻两种固体的结构和性质的差别。 界面电子态 是与固－固界面相关而不同于体内的一种电子态。 常见的一些可形成界面电子态的界面。 表面态和界面态的重要性 表面与体内的差异 （1）表面的原子排列与体内不同 （2）表面局域电子态波函数自最外一层原子面分别向体内和真空呈指数衰减，电荷分布在表面两侧约1～1.5 nm。 2.1.2 固体的实际表面 理想的表面实际上是不存在的，纯净的清洁表面是难以制备的。 1936年西迈尔兹把实际表面区分为两个范围： （1）“内表面层”。基体材料层和加工硬化层。 （2）“外表面层”。包括吸附层、氧化层等。 如书中图2－3所示。 实际表面就是我们通常接触到的表面，与清洁表面相比较，有下列一些重要特点。 轻度变形层 表层的组成 普通脏污层 吸附层 氧化层 贝氏层 严重变形层 普通脏污层---油污或灰尘 吸附层----大气中液体或气体分子吸附膜 氧化层---金属表面与空气中的氧形成氧化物层。 贝氏层---由于急加工中表面熔化和表面分子层的流动。 变形层----由于机加工而形成的变质层。 实际表面的组成 氧化 金属表面在加工过程中，新生表面一旦暴露，很快与空气中的氧起化学反应，形成金属氧化膜 Fe2O3 Fe3O4 FeO Fe 从微观水平看，即使宏观看非常光滑平整的表面实际上也是凹凸不平的，即表面是粗糙的。 经切削，研磨，抛光的固体表面似乎很平整，然而用电子显微镜进行观察，可以看到表面有明显的起伏，同时还可能有裂缝、空洞等。 表面粗糙度指的是在加工表面上具有较小间距的峰和谷所组成的微观几何形状的特性。 表面波纹度 又称宏观粗糙度 , 是零件表面周期性重复出现的一种几何形状误差。 减少零件实际支承表面面积，在动配合中使零件磨损加剧。 波高h：波峰与波谷之间的距离。 波距s：相邻两波形对应点的距离。 h /s≈1：40 ；s一般1~10mm 1）平均高度： 均方根平均高度： 粗糙度的定量方法：一般是两种 2）表面粗糙度γ 实际面积xy与理想表面积AB之比值。 表2-1 一些典型的hav与 γ值 对于工业制品，规定用中线制(以中线为基难线，评定轮廓的计算制)来评定表面粗糙度．从以下三项参数中选取： 1) 轮廓算术平均偏差Ra，即在取样长度为l内轮廓偏距绝对值的算术平均值。 或 Zi—以中线为起点度量出的廓形高度 n—在样品标准长度l内的测量次数 l —随粗糙度而定，粗糙度等级不同， l 值不同 x m m 样品长度l 轮廓图形上各点和中线之间距离平方的平均值的平方根 Zi大的点比重大，能高度的反映粗糙度 Ra≈0.8Rq 2）轮廓均方根偏差Rq 3)微观不平度，十点高度Rz hpi—第i个最高的轮廓峰高 hvi —第i个最低的轮廓谷深 是在标准长度l内五个最高的轮廓峰高的平均值与五个最低的轮廓谷深的平均值之和。 4) 轮廓最大的高度Ry 它是取样长度内轮廓峰顶线与轮廓谷底线之间的距离。 是表面经常出现的微观不平度的最大高度。 即在标准取样长