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制造技术／I艺装备 现代制造工程(Modem
ManufacturingEngineering) 2012年第12期
电子辅助热丝化学气相沉积一体化系统的研究+
王鸿翔，何时剑，金永福，王鹏程
(淮安信息职业技术学院，淮安223003)
Chemical
摘要：对电子辅助热丝化学气相沉积(Electron—assisted
Vapor
究，介绍了EACVD一体化系统的原理和设计，系统包括机械系统和控制系统。金刚石的沉积实验表明，该系统可以提
供高质量金刚石生长所需的均匀温度场，而且结构简单、制造成本低。该系统可用于光学涂层以及金刚石微器件的制
备研究。
关键词：电子辅助热丝化学气相沉积；一体化；金刚石涂层
中图分类号：TB43；TP273．5文献标志码：A文章编号：1671—3133(2012)12—0084—05
Researchof electron·assistedchemical
integration vapordepositionsystem
WangHongxiang，HeShijian，JinYongfu，WangPengcheng
(Huaian ofInformation
College Technology，Huaian223003，Jiangsu，China)
Abstract：The fortheEACVD is the and ofEACVD
integrationtechnology studied，and
system theorydesign integrationsystem
wasintroducedindetail．Theset ofamechanicalandcontrol show
composed system system．Diamonddepositionexperiments
、lthat，the can theuniformsubstrate fieldfor diamond with
systemprovide temperaturehighquality growth，andsimplestructure，
lowmanufacturecost．The canbeusedin and ofdiamondmicrodevice．
system opticalcoatingpreparation
words：Electron-assistedChemical film
Key VaporDeposition(EACVD)；integration；diamond
严等优点，而且具备设备投资小、成本经济和设备功
0引言
率低等特点…。该系统为金刚石膜在光学涂层以及
化学气相沉积(Chemical
VaporDeposition，CVD)微器件方面的应用研究提供了设备支持。
金刚石涂层因具有独特的力学、热学、光学及电学等
l EACVD系统原理
性能，在多个领域都有十分广泛的应用01-3]。电子辅
Chemical
助热丝化学气相沉积(Electron
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