离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能.pdfVIP

第30卷第5期 机械工程材料 V01．30No．5 2006年5月 MaterialsforMechanical ⅣIav2006 Engineering 离子束辅助磁控溅射沉积铬一铜一氮薄膜的结构与性能 田林海1’2，宗瑞磊1，朱晓东1，唐宾2，何家文1 (1．西安交通大学金属材料强度国家重点实验室，陕西西安710049； 2．太原理工大学表面工程研究所，山西太原030024) 摘要：应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬一铜一氮薄膜，研究了铜含量和轰击能量 对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明：在相同的轰击能量(400eV)下，铜含量对薄膜结 eV 构和硬度的影响不明显，但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度；离子辅助轰击能量从400 增加到800eV时薄膜的结构发生了显著变化，断裂韧度和硬度均大幅度提高。 关键词：离子束辅助磁控溅射；铬一铜一氮薄膜；硬度；断裂韧度 中图分类号：TGll3．25文献标识码：A 文章编号：1000_3738(2006)05_0030_03 Structure锄dofCr-Cu-N Films Ion Properties C响positePreparedby BeaIIl AssistedⅣIagnetron Sputtering TIAN Lill．hail，-，zONGRui-leil，zHUxia俨d∞f，TANGBin2，HEJia．wenl (1．Xi’an JiaotongUniversity，Xi’an710049，China； of 030024，China) 2．TaiyuanUniversityTechnology，Taiyuan Abstract：Cr_Cu-Nfilmswere low ionbe锄assisted depositedusingenergy magnetron Theeffectsof andbombardIllenton hardnessandfracture ofthefilmswere structure， copper energy toughness studied．Theadded hadnoobviouseffectsonthefilmstructureandhardnessatsamebombardmentof copper energy 400e、厂．Butadded wasbeneficialto ofthefilmfracture theionbombardment copper impmvement toughness．When was from filmstlllcturewas increased400eVto800eV，the