第三章 纳米材料的制备方法PPT.ppt

除了易升华的MgO、ZnO和纳米离子化合物可用“一步法”直接蒸发形成纳米微粒，然后原位加压成生坯外，大多数纳米氧化物陶瓷生坯制备采用“两步法”。“两步法”的基本过程如下：第一步是在惰性气体中(高纯He)蒸发金属，形成的金属纳米粒子附着在冷阱上；第二步是引入活性气体，例如氧，压力为约103Pa，使冷阱的纳米金属粒子急剧氧化形成氧化物，然后将反应室中氧气排除，达到约10-5Pa真空度，用刮刀将氧化物刮下，通过漏斗进入压结装置。压结可在室温或高温下进行，由此得到的生坯，经无压力烧结或应力有助烧结，可获得高致密度陶瓷。由于惰性气体冷凝法制备的纳米相粉料无硬团聚，因此在压制生坯时，即使在室温下进行，生坯相对密度也能达到约75%～85%。高致密度的生坯经烧结，能够获得高密度纳米陶瓷。 3)、微波烧结 纳米陶瓷在烧结过程中，即使在高温段停留时间很短，纳米相晶粒就长大到近一个数量级。要使晶粒不过分长大，必须采用快速升温、快速降温的烧结方法。而微波烧结可满足此要求，微波烧结的升温速度快(500℃/min)，升温时间短(2 min)。而且微波加热更具有热效率高，节能效果明显。 微波烧结工艺的关键是解决烧结温度的均匀性和防止局部过热现象。目前国内的设备生产企业、高校及研究所等正进行微波烧结工艺的探索。 纳米压印术是软刻印术的发展，它采用绘有纳米图案的刚性压模将基片上的聚合物薄膜压出纳米级图形，再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工，最终制成纳米结构和器件。它可以大批量重复性地在大面积上制备纳米图形结构，并且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。该技术还有制作成本极低、简单易行、效率高等优点。因此，与极端紫外线光刻、X射线光刻、电子束刻印等新兴刻印工艺相比，纳米压印术具有不逊的竞争力和广阔的应用前景。目前，这项技术最先进的程度已达到5 nm以下的水平。 纳米压印 (nanoimprint) 技术 3.5 其它纳米结构的制备方法 Fabrication of Nanoimprint Mold by scanning probe oxidation (SPO) and Anisotropic Wet Etching 扫描探针氧化和非等向性湿式蚀刻制备纳米压模 Varied 2D Structures on Si(100) Surface Varied 2D Structures on Si(110) Surface Schematic Illustration for Fabrication of 3D Silicon-based Nanostructures J 水热法 水热(hydrothermal)过程是指在高温、高压下在水、水溶液或蒸气等流体中所进行有关化学反应的总称。水热条件能加速离子反应和促进水解反应。在常温常压下一些从热力学分析看可以进行的反应，往往因反应速度极慢，以至于在实际上没有价值。但在水热条件下却可能使反应得以实现。水热反应有以下几种类型： 1、水热氧化： mM + nH2O → MmOn + H2 2、水热沉淀： KF + MnCl2 → KMnF2 3、水热合成： FeTiO3 + KOH → K2O?nTiO2 4、水热还原： MexOy + yH2 → xMe + yH2O (Me可为Cu、Ag等) 5、水热分解： ZrSiO4 + NaOH → ZrO2 + Na2SiO3 6、水热结晶： Al(OH)3 → Al2O3?H2O 水热合成法是指在高温、高压下一些氢氧化物在水中的溶解度大于对应的氧化物在水中的溶解度，于是氢氧化物溶入水中同时析出氧化物。如果氧化物在高温高压下溶解度大于相对应的氢氧化物，则无法通过水热法来合成。水热合成法的优点在于可直接生成氧化物，避免了一般液相合成方法需要经过煅烧转化成氧化物这一步骤，从而极大地降低乃至避免了硬团聚的形成。 水热反应的特点： (1) 在水热条件下能改变反应物反应性能，提高反应活性，因而能够将某些高温固相反应改换在低温下进行, 有利于开拓出一系列新的合成方法; (2) 水热的低温(与传统固相反应比较)、等压、均相等条件，有利于生长具有平衡缺陷浓度低、规则取向、晶形完美的晶体材料，如石英单晶、红宝石(Cr:Al2O3)、AlPO4、Y3Fe5O12等； (3) 在水热条件下，易于生成特殊中间态以及特殊物相； (4) 在水热较温和的条件下, 能使低熔点、高蒸汽压且不能在融体中生成的物质、高温分解相晶化或生成； (5) 水热条件下的环境气氛易于调节，有利于低价、中间价态与特殊价态化合物的生成，并能有效、均匀地进行掺杂； (6) 水热合成法具有能耗相对较低，原料便宜、实验条件易于调节等优点，除了可制得尺寸较大的单晶