第三章生物材料的表面改性.pptVIP

3.5.3 气相沉积 气相沉积是在真空条件下引入气态物质，参与气相反应后沉积于材料表面，主要分为： 化学气相沉积； 等离子体增强化学气相沉积； 物理气相沉积。 氮化钛是这一领域典型的、广泛应用的材料。 化学气相沉积是将四氯化钛和氨在800~1000 ℃的反应器中反应，可在材料表面获得TiN薄膜。 物理气相沉积是利用溅射、局部溶融方法得到钛粒子，并在真空室充入氮气，则钛粒子在沉静积于材料表面的过程中与氮所反应形成TiN。 等离子体增强化学气相沉积是在反应器中增加一个射频或微波发生器，通过射频（微波）振荡可使反应气体获得较高能量，气体离化率提高，反应温度降到500℃以下。这种方法较适合于在金属生物材料表面合成薄膜。 3.5.4 离子束薄膜合成 向材料表面沉积薄膜（蒸发或溅射沉积）的同时用离子束轰击材料表面的方法称为离子束辅助沉积。借助于离子束轰击，可使已沉积在表面的原子获得能量进入材料表层（反冲注入），并使薄膜致密，在较低温度下（甚至室温）获得高结合力的薄膜。 离子束辅助沉积的优点： 不会引起基体材料过热而使基体材料结构变化，离子束辅助沉积不仅适用于在金属材料表面沉积薄膜，对于高分子材料表面改性也是非常有效的。 离子束辅助沉积的缺点： 受“视线性”限制。由于沉积源向基体材料表面沉积薄膜以及高子束轰击薄膜的轨迹均是直线的，所以只能在平面工件上均匀沉积薄膜。对于形态复杂的人工器