左手材料及负折射率的研究进展.ppt

  1. 1、本文档共22页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
左手材料(Left-Handed Metamaterials)及负折射率的研究进展 报告人: 沈江汉 导师: 刘中民 研究员 辅助导师: 王华 副研究员 主要内容 什么是左手材料(Left-Handed Metama-terials)与负折射率 左手材料的研究与进展 负折射率的应用前景 左手材料(LHM)与负折射率 在经典电动力学中,介质的电磁性质可以用介电常数ε和磁导率μ两个宏观参数来描述。正弦时变电磁场的波动方程(Helmholtz方程)为: (1) 其中 由于电磁波能流的方向取决于玻印廷矢量S的方向,而 , 即 、 、 始终构成右手螺旋关系。因此在左手材料中,(它的方向代表电磁波相速的方向)和 的方向相反。 为负数,介质的折射率 也为负数,所以这种介质也被称为“负折射率物质”(Negetive Index of Refraction Material) 在左手材料中,电磁波的相速度和群速度方向相反,从而呈现出许多新颖的光学特性。 折射光仍然满足Snell定律 反常的Doppler效应 若光源发出频率 w0 的光,而侦测器以速度v接近光源时,在一般介质之中侦测器所接收到的电磁波频率将比 w0高,而在左手材料中,则会收到比w0低的频率。 反常的Cerenkov效应和光压 在 Cerenkov 辐射效应中,当一个粒子在介质中以速度 v 沿一直线运动,其辐射出的场会遵循 的形式,波向量 k (k=kz/cosq) 的方向会主要顺着v的方向,但kr 方向分量则在一般介质与左手材料中恰好会完全相反。 电磁辐射对反射体造成的光压,在左手材料的环境之中形成对反射体的拉曳力,而不是如在一般介质中的压力。 左手材料的研究与进展 左手材料的研究与进展 负折射率的应用发展前景 负折射率材料可以用于平板透镜,光束控制,耦合器等方面。 “完美透镜” (Perfect Lens)的概念与应用 传统透镜的分辨率限制(diffraction limit): ?x~2?/k=? 这也是造成DVD读写密度限制和光刻电路密度限制的主要原因。 左手材料制成的透镜,在合适的条件下,可以成为“完美透镜”,实现亚波长分辨率。 “完美透镜”的局限与解决方法 虽然负折射率材料制成的“完美透镜”可以实现亚波长分辨率,但是实现“完美透镜”的条件是相当苛刻的。目前还只能在微波区段实现负折射率,而且频率范围很窄。它们都是对电磁波有较大的损耗,而且很难将尺寸制作到足够小以至于在光学频率下使用。 光子晶体的 “等效负折射率”可以由构成材料的电介质的介电常数和材料周期性来调整,而且在高频率下有着很低的电磁损耗,三维PC比较容易制成,因此PC比左手材料更容易实现红外和光学频率下的应用。 展望 光刻蚀技术(photolithography) 近场光学显微仪 (near-field optical microscopy) 可选波长的滤光器 (wavelength-tunable filter) 光学显示器 (optical displays) * * Seminar I 自然界中物质的μ和ε一般都与电磁波频率有关,并且在 大多数情况下都为正数,此时方程(1)有波动解,电磁波能在其中传播。对于无损耗、各向同性、空间均匀的介质,由Maxwell方程组能推出 可见, 、 、 之间满足右手螺旋关系。 如果介质的μ和ε都小于零,方程(1)有波动解,电磁波能在其中传播。但是 、 、 之间不再满足右手螺旋关系而是满足左手螺旋关系。这种介质就被称为“左手材料” (Left-Handed Metamaterials) 通常的

文档评论(0)

pangzilva + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档