pH值对BiOX(X=Cl、Br、I)光催化剂性能的影响.DOCVIP

pH值对BiOX （X=C1、Br、I）光催化剂 性能的影响 赵梅场红艳袁瑭翦智鹏王金金 青岛科技大学材料科学与工程学院 以Bi203和HX （X=C1、Br、I）为主要原料，用氨水调节出不同pll值，制备出层 片纳米结构BiOX （X=C1、Br、I）光催化材料，并通过X射线衍射仪（XRD）、 扫描电子显微镜（SEM）、紫外可见漫反射光谱仪（DRS）等手段对该样品进行物 相、形貌、光学性能表征，在可见光辐照下以甲基橙（M0）为目标污染物测试 BiOX （X=C1、Br、I）光催化性能。对比分析了 BiOX （X:C1、Br、I）形貌、光 吸收波长、光催化降解速率。结果表明：在pll=9时制备的BiOCl、pn=9时制备的 BiOBr, pH=6时制备的BiOI,由于具有更小的纳米片尺寸和更为疏松的微观结构 使其分别具有更好的光催化性能。光催化性能优化机制可从纳米片尺寸、结构疏 松程度等方面分析。 关键词： 卤氧化秘;pH值;光催化; 半导体光催化剂一般由填满 电子的低能价带（VB）和空的高能导带（CB）构成，当用能量等于或大于禁带 宽度的光照射光催化剂时，产生光生电子-空穴对。在光催化剂表面，光生电子- 空穴对与水和氧气反应生成活性自由基，自由基和吸附在催化剂表面的有机物 发生氧化还原反应，使其变为无毒的codniLOin。F1前，对半导体光催化材料 的研宄主耍集中在纳米门02和ZnO的改性和新型高效光催化材料体系的探索两 个方向。W内外科研人员通过半导体复合、离子掺杂等方法拓展^02光催化剂 光吸收范围，提高稳态光降解量子效率及光催化效能，在一定程度上取得了进 展［6-9K同吋，科研人员也在致力于新型光催化剂的研究。卤氧化铋光催化剂 BiOX （X=C1、Br、I）是一种广受科研工作者重视的新型光催化剂，卤氧化铋为 层状结构并且其属于间接跃迁带隙半导体，这两个特点都降低了卤氧化铋光生 电子-空穴对复合的儿率，有利于提高光催化活性。由于卤氧化铋的特殊结构和 性能使得卤氧化铋成为光催化材料研究中的热点之一，并取得了很大进展。 S前为止，中外科研工作者通过诸如溶剂热法、水热法、醇热法、沉淀法、模板 法、溶胶凝胶法等不同方法合成丫不同形貌的纳米BiOX（X=Cl、Br、I）结构，用 于可见光光催化降解环境污染物的研宂。在一定程度上为BiOX （X=C1、Br、I）光 催化剂的最佳利用提供了依据［10-15］。同时发现，BiOX （X=C1、Br、1）材料的 制备条件和形貌控制与光催化性能之间有极大的关联。对BiOX （X=C1、Br、I）性 能的优化工作主要集中在相组成不变，改进BiOX （X=C1、Br、I）单相的显微结 构，制备表面积更大、结晶度更高的BiOX （X=C1、Br、I）纳米结构［16］。低温 化学沉淀法是制备光催化材料的一种基本方法，具有低温反应、制备条件简单、 产物纯浄、形貌为层片状等优点［17-19］。对低温化学沉淀法工艺条件影响光催 化剂结构形貌、光催化性能的研究甚少，对不同pH值下制备的BiOX （X=C1、Br、 I）形貌与光催化性能的对比分析儿乎没有。本研宄致力于采用低温化学法，研 究pH值对BiOX （X=C1、Br、I）形貌、光吸收波长的影响，进而研究不同pH值 下制备的BiOX （X=CK Br, T）光催化性能的差别，以期深入分析BiOX （X=C1、 Br、I）制备工艺条件-形貌结构-光催化性能的内在关联。 1实验部分 1.1材料与仪器 氧化铋Bi203,盐酸HC1,氢溴酸HBr,氢碘酸HI,甲基橙M0,无水乙醇CH3COOH, 氨水NH,0U,均为国药集闭化学试剂有限公司。 电子天平，ALC-210.3型，广州市深华生物技术有限公司；数显恒温磁力搅拌器， HJ6A型，常州国宇仪器制造有限公司；鼓风干燥箱，天津市莱博特瑞仪器设备 有限公司；台式高速离心机，TG16-II型，长沙平凡仪器仪表有限公司；光催化氙 灯系统，CEL-HXF300/CEL-HUV300型，北京中教金源科技有限公司；X-射线衍射 仪，Rigaku D/Max 2200型，日本理学公司；扫描电子显微镜，JSM-6700F型，日 本电子公司；紫外-可见漫反射光谱仪,Lambda35型,美国Perkin Elemr公司。 1. 2样品的制备 称取一定量的Bi203，放罝于烧杯中，加入过量HX （X=C1、Bi、、I）溶解，生成 BiX、-HX透明溶液。在磁力搅拌条件下分别用氨水调节溶液至pH=3、6、9，将得 到的乳白色胶状物恒温40°C保持搅拌30mino将所得的乳ft色胶状物样品在8 000r ? min下离心分离5min，用二次蒸馏水和无水乙醇各洗涤产物3次，在 40°C下干燥24h，取出研磨制得样品。 1.3光催化性能