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六氟_1_3_丁二烯的提纯方法及应用优势
第32卷第6期低温与特气Vol. 32,No.62014 年 12月LowTemperatureandSpecialtyGasesDec.,2014六氟-1,3-丁二烯的提纯方法及应用优势徐娇,何双材,胡欣,齐海,张金柯,白占旗( 浙江省化工研究院 氟碳化学品研发和技术中心,浙江 杭州310023)摘要:介绍了六氟-1,3-丁二烯的性质、纯化技术以及与传统含氟刻蚀气体刻蚀性能的比较。六氟-1,3-丁二烯是一种新型的电子气体,主要应用于超大规模集成电路的干法刻蚀方面。优越的刻蚀性能和优良的环境性能使其成为具有发展前景的下一代刻蚀气体。关键词: 电子气体; 全氟-1,3-丁二烯; 纯化;吸附中图分类号:TQ117文献标志码:A文章编号:1007-7804(2014)06-0023-05doi:10.3969/j.issn.1007-7804.2014.06.006Purification Methods ForHexafluoro-1,3-ButadieneAnd its ApplicationAdvantagesXU Jiao,HE Shuangcai,HU Xin,QI Hai,ZHANG Jinke,BAI Zhanqi(R&DandTechnologyCenterofFluorocarbonChemicals,ZhejiangResearchInstituteofChemicalIndustry,Hangzhou 310023,China)Abstract:Thepropertiesofhexafluoro-1,3-butadieneanditspurificationmethodsandthecomparisonofetchingpropertieswithtraditionalfluorine-containingetchingagentsareintroducedinthisarticle.Hexafluoro-1,3-butadieneisanewtypeofe-lectronicgases,mainlyusedinlargescaleintegratedcircuitofthedryetching.Superioretchingpropertiesandexcellenten-vironmentalperformancemakeithavetheprospectsforthenextgenerationofetchinggas.Key words: electronic gas; hexafluoro-1,3-butadiene; purification;adsorption电子气体(Electronicgases)作为特种气体的一个重要分支,是超大规模集成电路、平面显示器件、太阳能电池,光纤等电子工业生产不可或缺的原材料,广泛地应用于薄膜、蚀刻、掺杂、气相沉积、扩散等半导体工艺。在全球电子气体市场上,含氟电子气体占比约为30%,主要用作蚀刻剂和清洗剂[1]。含氟电子气体主要为全氟类化合物,如:NF3、BF3、SF6、WF6、CF4、传统含氟电子气体在未来的使用将会受到极大限制,因此,寻找新型环保的含氟电子气体显得尤为重要。六氟-1,3-丁二烯(Hexafluoro-1,3-butadiene,HFBD)在工业上有多方面的应用,不仅是制备多种含氟高分子弹性材料聚六氟丁二烯的单体[2],还是一种温室效应极低,绿色环保的高效干蚀刻气体。其比传统等离子蚀刻气体的蚀刻选择性更高,更适[3]CHF3 、CH2 F2 、CH3 F、C2 F6 、C3 F8 、c-C4 F8 、C5 F8、合于高深宽比的蚀刻工艺。近几年对HFBD的C4F6等。目前使用最多的CF4、C2F6、c-C4F8等全氟烷烃(PFCs)在《京都议定书》中被认定为温室气体,对大气温室效应具有促进作用。当今社会,人们对环境的要求不断提高,半导体工业中的PFCs 排放也成为全球环境的突出问题,应用研究主要集中在超大规模集成线路的干法刻蚀方面[4]。众所周知,电子级工业气体必须“超纯”和“超净”,其杂质含量控制在10-6,甚至10-9级别。因此,研究 HFBD 的纯化技术对其在电子工业的应用非常有意义。收稿日期:2014-07-04基金项目: 浙江省科技计划项目(2011F10061)24低温与特气第32卷1 HFBD的性质及市场现状1.1HFBD的物化性质六氟-1,3-丁二烯的CAS登记号为685-63-2,全 称1,1,2,3,4,4-六氟-1,3-丁二烯,分子式C4F6,化 学式CF2=CF-CF=CF2,相对分子质量162.03。HFBD的沸点为6℃,凝固点为-132℃,在常温、常压下是一种无色、无嗅、有毒、可燃烧的液化气体,不溶于水,在空
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