薄膜物理-CH7薄膜的形成幻灯片.ppt

薄膜的形成——薄膜形成过程的计算机模拟 具体的模拟步骤： 确定要模拟的分子团簇数目，将分子团簇随机分布在限定区域内。 由分子作用对势决定的分子或分子团簇间的相对运动开始，小的分子或分子团簇向 最近邻大的分子团簇靠近。 当分子或分子团簇间足够接近时，开始向合并的状态转变。 计算在合并过程，向合并态转变的转变的概率w。 由转变概率来决定是否接受改变。 合并后的分子团簇继续重复2-4的过程直到达到稳定态。 薄膜的形成——薄膜形成过程的计算机模拟 具体的模拟步骤： 确定要模拟的分子团簇数目，将分子团簇随机分布在限定区域内。 由分子作用对势决定的分子或分子团簇间的相对运动开始，小的分子或分子团簇向 最近邻大的分子团簇靠近。 当分子或分子团簇间足够接近时，开始向合并的状态转变。 计算在合并过程，向合并态转变的转变的概率w。 由转变概率来决定是否接受改变。 合并后的分子团簇继续重复2-4的过程直到达到稳定态。 薄膜的形成——习题、思考题 薄膜形成的基本过程描述？ 什么是凝聚？入射原子滞留时间、平均表面扩散时间、平均扩散距离的概念？ 什么是捕获面积？对薄膜形成的影响？ 凝聚过程的表征方法？ 核形成与生长的物理过程。 核形成的相变热力学和原子聚集理论的基本内容？ 什么是同质外延、异质外延？失配度？ 形成外延薄膜的条件？ 薄膜的形成——核形成与生长 原子聚集理论（统计理论） 问题提出 热力学界面能理论的两个假设：一是认为核尺寸变化时，其形状不变；二是认为核的表面自由能和体积自由能与块体材料相同。 显然，此假设只适用于比较大的核（大于100个以上的原子）。 理论计算： 实际情况：基片温度低、过饱和度高时，临界核只有几个原子。 宏观表面能计算、表面能概念、结构 薄膜的形成——核形成与生长 为了克服理论上的困难，1924年Frenkel提出了成核理论原子模型，并不断发展。 原子聚集理论的基本内容 原子聚集理论将核（原子团）看作一个大分子，用其内部原子之间的结合能或与基片表面原子之间的结合能代替热力学理论中的自由能。 临界核 当临界核尺寸减小时，结合能出现不连续性、以及几何形状不能保持不变。 无法给出临界核大小的解析式。 薄膜的形成——核形成与生长 由于临界核中原子数目较少，可以分析它含有一定原子数目时所有可能的形状，然后用试差法断定哪种原子团是临界核。 薄膜的形成——核形成与生长 温度 、 和 称为转变温度或临界温度，有如下计算公式： 原子团结构也与吸附能和结合能有关。如4原子团有平面结构和四面体结构： 平面结构：吸附能为4 ，结合能为5 四面体结构：吸附能为3 ，结合能为6 只有 时，才能形成四面体结构。 薄膜的形成——核形成与生长 成核速率 成核速率 与临界核面密度 、临界核捕获范围 和吸附原子向临界核扩散的总速率 有关。 由统计理论可得到临界核密度： 式中， 和 分别为基片表面上的吸附点密度和吸附单原子密度， 为临界核中的原子数目， 是临界核的结合能， 是单原子吸附状态下的势能。 薄膜的形成——核形成与生长 若将 作为能量基准，则 薄膜的形成——核形成与生长 计算： 令 ，可以得到转变温度 ，可以得到转变温度 薄膜的形成——核形成与生长 两种成核理论的比较 a.理论依据的基本概念相同，得到的成核速率公式的形式相同； b.采用的能量不同：热力学界面能理论用自由能，原子理论用结合能； c.微观结构模型不同：热力学界面能理论采用简单理想化几何构型（能量连续变化），原子理论采用原子团模型（能量非连续）； d.热力学界面能理论适用于大的临界核，原子理论适用于很小的临界核； e.两种理论都能正确给出成核速率和临界核、基片温度和基片性质的关系。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 ★ 薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成过程是指形成稳定核之后的过程。 薄膜生长模式是指薄膜形成的宏观形式。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成过程描述: 单体吸附； 形成小原子团（胚芽）； 形成临界核（开始成核）； 临界核捕获原子，开始长大； 临界核长大的同时，在非捕获区，单体逐渐形成临界核； 稳定核长大，彼此连接形成小岛，新面积形成； 新面积吸附单体，发生“二次”成核； 小岛结合形成大岛，大岛长大并相互结合，有产生新面积，并发生“二次”、“三次”成核； 形成沟道和带有孔洞的薄膜； 沟道填平，封孔，形成连续薄膜。 薄膜的形成——薄膜形成过程和生长模式 薄膜形成可划分为四个