第一讲：紫外光刻技术知识.pptVIP

自我介绍;机器部;主要研究工作 一.同步辐射衍射光栅研制 1.真空紫外球面闪耀光栅（燃烧光束线） 2.真空紫外球面Laminar光栅（燃烧光束线） 3.真空紫外柱面Laminar光栅（真空紫外圆二色线） 4.软X射线球面Laminar光栅（光电子能谱线）;主要研究工作 二.与国防建设有关的衍射光栅研制 1.高线密度软X射线透射光栅研制（ICF诊断） 2.软X射线Mach-Zehnder干涉仪用闪耀光栅（X射线激光） 3.空间位置传感器用变间距光栅（飞机姿态闭环控制） 4.X射线莫尔光栅（X射线激光） 5.大口径衍射光学元件研制（863专项） 脉宽压缩光栅 光束采样光栅 谐波分离光栅 束匀滑位相片;主要研究工作 三.其它国家纵向课题 1.中科院知识创新工程项目“像差校正光栅的设计、制作和性能评价” 2.国家自然科学重点基金“同步辐射软X射线偏振测量基础技术研究” 3.国家自然科学基金“变线密度光栅的研制和检测” 4.国家自然科学基金“高线密度自支撑透射光栅超微细加工技术研究” 5.国家自然科学基金“探索变间距全息光栅新的研制及检测方法” 6.国家自然科学基金“X射线激光干涉仪用分束光栅研制”;;;;;原子力显微镜;台阶仪;;;微细加工技术;微细加工技术;本人讲授的内容;光子束技术;第一讲 紫外光刻技术;图形转移过程;2．掩模版 把要加工的图形制作成透光衬底上的金属膜（吸收体）图形，即为掩模。 衬底 图形 图17. 紫外光刻掩模 对不同的曝光光源，掩模的衬底和吸收体材料不一样！紫外光刻掩模的衬底一般是石英材料，吸收体为金属铬。 ;3.光刻胶 光刻胶是一种对某些波长感光灵敏的记录材料。曝光后的光刻胶，经显影后形成浮雕图形。光刻胶的分类： 紫外光刻胶 按光源分类 X射线光刻胶 电子束胶 正胶 按性能分???：  负胶;正胶----曝光时，受光照的部分，光刻胶与光起光化 学反应，使光刻胶的大分子链断裂，显影时 容易溶于显影液。显影后的光刻胶图形与掩 模版一致。 负胶----曝光时，受光照的部分，光刻胶与光起交联 反应，使光刻胶的分子连接起来，显影时未 曝光的部分易溶于显影液。显影后的光刻胶 图形与掩模版图形相反。 ;掩模版;光刻胶的特点： 正胶----分辨率较高，感光灵敏度低 负胶----分辨率较差，感光灵敏度高;三．光刻工艺流程（以正胶为例）;;;;;前烘温度与显影速率之间的关系;由上向下加热;;;;;可以看出两者之间的光刻分辨率的差别！;样品采用真空吸附固定；掩模固定，三维调节样品以保证对准。;;制作微透镜的有效方法;;1.接触式曝光技术;2．接近式曝光技术;3. 投影式曝光技术; 根据光的衍射理论，分布重复缩小投影曝光最小可分辨线宽为 R=kλ/NANA为投影透镜的数值孔径内，NA=nsin?，k为工艺系数，对理想的透镜k=0.61,一般经验值k=0.8.优点：完全避免了掩模的损伤问题 掩模图形制作相对容易。;;;;紫外光刻图形截面照片