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第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －1－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －2－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －3－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －4－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －5－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －6－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －7－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －2－ ;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －10－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －11－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －12－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －13－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －14－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －1 5－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －1 6－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －1 7－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －1 8－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －19－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －20－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －21－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －22－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －23－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －24－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －25－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －26－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －27－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －28－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －29－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －30－;粒子束刻蚀 粒子束刻蚀也是干法刻蚀的一种，与化学等离子体刻蚀不同的是粒子束刻蚀是一个物理工艺。如图所示，晶园在真空反应室内被置于固定器上，并且向反应室导入氩气流。氩气进入反应室便??到从一对阴阳极来的高能电子束流的影响。电子将氩原子离子化成带正电荷的高能状态。由于晶园位于接负极的固定器上，从而氩离子便被吸向固定器。在移动的同时被加速以提高能量。在晶园表面上它们轰击进入暴露的晶园层并从晶园表面炸掉一小部分从而达到刻蚀的目的。 ;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －32－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －33－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －34－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －35－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －36－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －37－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －38－;第九章 基本光刻工艺------ 从曝光到最终检验 －39－