角度限制散射投影电子束光刻.pdf

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2018-05-25 发布于河南
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角度限制散射投影电子束光刻

综述角度限制散射投影电子束光刻郭宝增 , 田华河北大学电子与信息工程学院 , 河北保定、摘要角度限制散射投影电子束光刻采用并行投影技术 , 具有分辨率高曝光范围大的特点, 可望获得远比电子束直写光刻高的产量。本文介绍了的原理、特点及该技术的研究进展情况。关键词光刻电子束光刻集成电路中圈分类号文献标识码文章编号一一一 , 一违叹 ” , , 色而。的强度为林如果采用矢量扫瞄方法 ,