磁控溅射法制备TIOLT2GT薄膜及其性质研究.pdf

硕上论文 磁控溅射法制备TiO：薄膜及性质研究 摘要 半导体光催化是近30年来发展起来的新兴研究领域，其中Ti02由于其良好的化 学稳定性，抗磨损性，低成本，无毒等特点而成为最具应用潜力的光催化剂。 本文分别以高纯金属钛，二氧化钛为靶材，普通玻璃为基体，氩气为工作气体， 采用射频磁控溅射法制备得到金属Ti薄膜和Ti02薄膜。在空气气氛中退火处理，考 察两种靶材对制备得到的Ti02薄膜结构和形貌的影响。结果发现，两种靶材制得的 薄膜均为锐钛矿相，以高纯金属钛为靶材制得的样品颗粒较大，分布较均匀。 为了与普通玻璃基体对照，另选用石英玻璃、ITO玻璃、陶瓷片、Ag条四种材 料作为基体，以高纯金属Ti为靶材，采用磁控溅射法制备金属Ti薄膜，并在空气气 氛中退火处理，比较不同基体对Ti02薄膜结构和形貌的影响。 以高纯金属Ti为靶材，改变不同制备参数，如溅射压强、溅射功率、退火温度， 考察制备参数对金属Ti薄膜结构和形貌的影响。沉积的金属钛薄膜在空气气氛中， ℃～1000℃)退火金属钛薄膜开始先生成锐钛矿相转变，接着转变为金红石相。 膜光学性质的影响。 对所制备的不同参数的Ti02薄膜进行光催化性能测试。比较不同光源、不同初 始甲基橙溶液浓度、不同pH值的甲基橙溶液对溶液脱色率的影响。 关键词：二氧化钛薄膜；射频磁控溅射；金红石；锐钛矿；光催化性能 Abstract the 30 duringpast isa investigatedsubject ofsemieonductorswidely Photocatalysis chemical materialforits stability, mostlatent dioxideisthe vears．Amongthem，titanium costand innocuity． wearibility,low as asthe istaken Tiand aretaken target，argon the Ti02 Inthis pieces paperhighpure RF substrate sputtering· are on by magnetic thinfilmsdepositedglass protectivegaS．The the the whichhavebeen areannealedin muffle．Investigate