单层光学薄膜激光损伤.pdfVIP

1999卓 l2 弟 36卷弟 6期 如l州 0fSichtu．mUniversity (NamrMScienceEdllior0 Vo1．36No．6 文章螭号：0490-6756(1999)06-l144一O3 Hf0，SiOz单层光学薄膜激光预处理机理研究 Il ”l】‘ 旦～兰 面 ’邱服民 龙 光电系，成都6100刚) L／f ／l77 ／九／j口 SiO2单层光学薄膜 ，经低于其破坏阐值的脉冲 Nd ：YAG激光预处理后 ，薄膜的抗澈光 ^～S ＼f_vH譬 g 损伤闽值可达到未处理前的两倍或两倍 以上[ ，而对于HfOz单层光学薄膜脉冲Nd。+ ·YAG 赋 澈光预处理的效果却 比SiO2薄膜有显著差异 (图 1所示)．对于光学薄膜 ，激光预处理提高抗 澈光损伤闽值 的机理已有大量研究 “ ，但是 ，还投有一个共同认可 的结论 ．覆们对这一 问 题也进行 了理论和 实验探索 ，得到 了一些初步的结果 ．现报道 于下 ． 暾 圳 厩充 粮 理 褂 ．一一一 詹n 图1 单屡Hfo，SiOz光学薄膜激光 已处理扣未处理效果比较 按 1 激光破坏光学薄膜的物理过程 琏 要弄清楚激光预处理提高光学薄膜抗激光损伤 的机理 ，首先得了解激光破坏光学薄膜的 物理过程．光学薄膜在光Ji}{射点被破坏 ，该点薄膜温度至少要达到熔点温度．也就是说 ，光学薄 昌； 膜被激光破坏 ，就必须把地能变成热能，使光学薄膜 的温度升至破坏温度．光能要转换成热能 ． 薄膜蚶光必须要吸收．薄膜吸收 匕能变成热能主要有两种可能：(I)薄膜的晶格可以直接吸收 光能而使热振动加剧．当温度升到熔点时，薄膜被破坏．对脉冲Nd ：YAG激光来说 ，这种可 能性很小 ，因为晶格振动吸收的波长应是更长的中红外 ；(2)导带中有较多的自由电子 ．自由电 子吸收光能后热运动能增加 ，在运动中 品格碰撞 ，在很短 的时间内 (10 -～10_．s)把 电子 的 热运动能量转化为品格的热振动能 ，引起薄膜温度升高 ，达到熔点时，薄膜被破坏．由于 HfO ， SiO2都是绝缘材料 ，导带 中的 自由电子极少 ．纯净 HfO ，SiO2的禁带宽度都很宽 ：分别为5．I ev，9．IeV)，对 Nd” ：YAG激光来说 ，要实现价带到导带的单光子吸收是不可能的．另一种可 能，我们认为是禁带中局域能态 的电子激发到导带 中去 的．局域能态的形成是 由于薄膜 为 收柑 日期 ：1999—03一J6 基金项 目：中国工程物理研究院科学技术基金 第 6期 周业为等：HfO2，SiO2单屉光学薄膜激光预处理机理研究 I145 非晶态和有缺陷所致 ，这通过 x光衍射实验已获得证实t圈2所示)、因为非晶态 微观结构 田2 H 、s)：单屡光学薄膜 X光衍射图 是长程无序 ，并 ，它可用连续无规则阿络模型来描 术 ．从化学键 的观 点看 ，对于非晶态 ，当原子处于