武汉光谷新技术自主创新路径.docVIP

武汉光谷新技术自主创新的路径 　　 武汉国家光电子产业基地（即“武汉?中国光谷”）于2001年被原国家计委和科技部批准，2009年12月被国务院批准为国家自主创新示范区。经过十年的开拓已取得了显著成就，但要把“武汉?中国光谷”打造成像美国“硅谷”一样的世界一流科技园区，还需要不断地努力与创新。如何实现创新，不仅是武汉光电子信息产业面临的挑战，而且是整个东湖高新区乃至武汉所有产业面临的挑战。经研究，实现武汉光电子信息产业自主创新的路径与对策主要有以下几方面。 　　 第一，充分吸取国内外技术创新成功的经验，他山之石择其精华为我所用。在技术创新上，国外有着许多可取的成功经验。美国、德国等是典型的自主创新的国家，其科研投入、人才机制、政府支持等都是技术创新成功的重要因素。日本的技术创新是以市场为导向的，是以跟进型的技术创新即模仿创新为主，通过引进领先技术，对其进行模仿和再创新，是模仿创新成功的典范，突破性的技术创新很少。韩国的技术发展还无法与美、德、日等经济发展强国相抗衡，科技水平远远落后于这些国家，创新战略也是模仿，但韩国非常重视引进技术的消化吸收再创新。技术创新具有一定阶段性，不是一蹴而就的事情，需要付出很多努力才可以实现，技术创新的成功不仅与一国或地区所处的经济环境、社会环境有关，也与其所处的科技环境有关。但国外技术创新的成功却有着共性的特征，都采取了适合其经济文化发展状况和阶段的技术创新模式，注重企业的主体作用、技术人才的培养及投入，并把技术创新作为经济社会发展不可或缺的重要部分。因此，武汉光电子信息企业在进行技术创新的时候，必须认清自身的特点和发展阶段，吸取国外发达国家技术创新的成功经验，寻找出与时代背景相符合的、合适的技术创新对策，引领技术创新活动。 　　 第二，充分把握国内外形势，创造与企业技术创新相适应的创新实施条件。在全球经济一体化与技术创新周期缩短的背景下，企业创新的主动性与积极性被充分调动起来。现有的技术创新条件已不能很好地满足产业对增强技术创新能力的迫切需求。必需深入研究、从不同??角度分析企业技术创新活动，综合考虑影响武汉光电子信息企业技术创新的多种因素，针对在目前世界经济困境中暴露出来的深层次问题，创造与企业技术创新相适应的创新实施条件。 　　 第三，整合企业技术创新内外因素，选择最合适的创新模式。技术创新需要一个过程，在这个过程中涉及到许多因素，这些因素组合与配置的方式及其结构上的差异，就构成了技术创新的不同模式。但创新过程中技术变化强度大小、技术创新动力源对不同的企业或产业是不同的，同时随企业的发展也在不断变化。所以，技术创新又无千篇一律的固定模式。不同产业对技术及技术创新的需求程度不同，企业技术创新的内外因素、技术创新的周期、层次与规模也不同，会导致技术创新的成果及对经济增长贡献的预期也不相同。因此，对产业链上的不同企业，应根据自身实力、产品特性、企业内外环境、技术创新平台，有机整合技术创新的资源、结合技术创新自身的模式与规律，审时度势，选择最合适的创新模式和时机，获取最大的技术创新成果。 　　 第四，深刻认识产业特色与技术创新现状，合作创新推进产业技术创新能力提升。合作创新是合作各方在技术创新的全过程或某些环节共同投入，共同参与，共享成果，共担风险。其优点是合作创新可以实现合作各方优势互补。通过合作创新，实施共同开发，可以有效分担成本和分散风险。可以缩短了技术创新时间，降低技术创新的成本，并且更能应付市场需求的不断变化，取得市场上的主动权。同时合作创新可打破产业和技术壁垒，获得技术创新领域的拓展。 　　 第五，积极开拓市场，通过市场效应促进技术创新。光电子信息产业属于高科技产业，具有技术方面的垄断性优势，在一定时期内可以独占技术创新所带来的收益。正因为如此，光电子信息企业在很多时候针对新上市的产品给出了相当高额的市场销售价格，以期快速收回创新成本。然而，现在的市场经济当中并不存在完全的垄断性优势，更多的是一种垄断竞争的状态。光电子信息企业起初凭借由技术创新所占据的市场优势地位获得了超额利润，但是，随着时间的推移，很快就有新的竞争对手进入市场瓜分市场份额，最终使得处于同行业的企业都只能获得正常利润。为了使企业市场占有率与增长率保持在合理水平，保持企业进行原始技术创新的积极性，就需要不断地拓展市场。一方面通过拓展市场得到的超额回报，使企业技术创新得到保障与持续。另一方面新型市场的需求也会为技术创新活动提出新的要求，激励企业技术创新的深入开展。 　　 第六，进一步提升自身创新优势力。目前，武汉光电子信息产业与技术水平在全国居领先地位。在产业上，已建成了国内最大的光纤光缆、光电器件与激光产业生产基地。在研发上，有国内最大的光通信技术研发基地，并建有我国光电子领域唯一一家国家实验室――武汉光电