利用刻蚀和椭偏技术分析离子注入铌酸锂晶体的波导特性-analysis of waveguide characteristics of ion implanted lithium niobate crystals by etching and ellipsometry techniques.docxVIP

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  • 2018-05-29 发布于上海
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利用刻蚀和椭偏技术分析离子注入铌酸锂晶体的波导特性-analysis of waveguide characteristics of ion implanted lithium niobate crystals by etching and ellipsometry techniques.docx

利用刻蚀和椭偏技术分析离子注入铌酸锂晶体的波导特性-analysis of waveguide characteristics of ion implanted lithium niobate crystals by etching and ellipsometry techniques

山东大学博士学位论文中文摘要光波导是利用光在折射率不同的两种介质分界面上发生全反射的原理,将光 波限制在微米量级的透明材料中传输的导行结构。光波导是集成光学的基本单 元,是光波耦合器、波导调制器、波导开关等无源器件和有源器件的基础,也是 全光网络传输的基础。光波导以其独特的性能、高度集成化以及规模生产的低成 本,在各种光器件的制造中起着重要的作用。人们一直在探索有效的方法来制备 性能优良的光波导。常用的制备光波导的方法主要有扩散、交换、薄膜沉积以及离子注入等。离子注入技术作为一种成熟的材料表面改性技术,是制各光波导的 有效方法,已经在多种光学材料中成功制作了光波导。离子注入技术制作光波导, 具有以下优点:①选用的注入离子种类繁多;②离子注入的参数,包括离子种类、 剂量和能量可控性好;③离子注入可以在各种温度下进行;④离子注入可以在材 料中形成两层或两层以上的多层结构,从而制备复杂光波导;⑤离子注入是在真 空中进行的,因而材料表面不会被污染。由于以上优点,离子注入成为了最有发 展前景的制备光波导的方法之一.迄今为止,人们已经利用离子注入技术在包括光学晶体、玻璃、半导体以及有机聚合物在内的大量光学材料中形成了光波导结 构。铌酸锂(HNb03,LN)是一种重要的光学晶体,具有以下特点:①优良的电 光、双折射、非线性光学、声光、光弹、光折变、压电、热释电、铁电与光生伏 打效应等物理特性;②机械性能稳定、耐高温、抗腐蚀;③易于生长大尺寸晶体、 易加工、成本低;④实施不同搀杂后能呈现出各种各样的特殊性能。因此LN晶 体在声表面波滤波器、光波导、电光调制器、倍频转换、全息存储等方面有着广 泛的应用,是一种如硅单晶一样不可多得的人工晶体,是至今为止人们所发现的 光学性能最多和综合指标最好的晶体之~,是应用于光电子领域最基本和最重要 的功能材料。尤其是近年来,稀土搀杂工艺、畴工程和近化学比晶体生长与加工 技术的完善,使有关LN波导和LN光电和光子学器件的功能和性能研究急剧增加, 使之有可能成为光通讯、军事对抗、光学数据存储、光陀螺仪、光学遥感、激光 技术等领域中的关键元器件制作的光学‘‘硅’’材料。由于铌酸锂晶体的以上优点 和重要价值,它也就成为了离子注入光波导的首选材料。山东大学博士学位论文离子注入形成的光波导,注入区的折射率分布决定了光波导中的导波模式等 导波特性,波导中的非线性特性也与折射率分布有着重要的关系。因此,探讨离 子注入光波导中的折射率分布不但是研究光波导特性的基础,也为离子注入光波 导的设计与制备提供理论指导。直接测试光波导中的折射率分布比较困难,为了确定波导中的折射率分布,科学家相继提出了一些方法,例如Wentzel、Kramers 和Brillouin等人提出的WKB法以及衍生出来的iWKB法、由Fluck等人提出的 PmR(参数折射率分布重构法)等。这些方法适用于一些特定的折射率分布,并得 到了很好的应用。但是对于离子注入所形成的光波导,由于光学位垒的存在,利 用棱镜耦合所测试的光波导的暗模存在非稳定模式(漏模)。该漏模不是在波导中 传输的真正导模,而可能是光波在波导表面和光学位垒之间的多次反射的结果, 因此,上述等方法并不完全适合离子注入光波导折射率分布的拟合。为了解决这 个问题,Chandler和Lama等人于1986年提出了一种反射计算法,简称RCM,它可以较好地确定离子注入光波导的折射率分布。对于计算离子注入光波导的折 射率分布,RCM法是目前研究者应用的主要方法,但这种方法仅适用于波导模 式比较多的情况。当模式数比较少(少于3个)时,RCM方法的误差比较大。 而且位垒下面的折射率分布,RCM无能为力。为了解决这个问题,我们提出利 用刻蚀和椭偏方法来分析离子注入光波导的折射率分布。刻蚀主要应用于微细加工技术中,包括微电子学、光电子学和微光学元件的 制作。刻蚀包括干法刻蚀和湿法刻蚀。椭圆偏振测量术起源于100多年前,是一 种通过分析偏振光在待测薄膜样品表面反射前后偏振状态的改变来获得薄膜材 料的光学性质和厚度的一种光学方法。该方法有以下几方面的优点:①具有非破 坏性;②测量的灵敏度和精度高;③可以同时测量到材料的光学参数和厚度n、k、 d的值。刻蚀和椭偏技术相结合确定波导折射率分布,就是利用刻蚀方法把波导层层 剥离,并依次测量波导表面的椭偏参量。通过对所有椭偏参量的分析来得到波导 层的折射率分布。这种方法的优点是:(1)对折射率分布的测量更可靠。目前对离子注入晶体材料后的波导区的折 射率分布分析主要依据RCM法,它是根据波导中的传导模式来反演、拟合折射率 分布,而椭偏法是根据椭偏参数来计算折射率分布。n山东大学博士学位论文(2)适用范围更广。对于波导中的模式数较少(少于3个)的情况,尤其是最 有应用价值和应用前景的

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