金属有机物化学气相沉积设备多腔体气体输运技术的分析-analysis of multi-cavity gas transport technology in metal organic chemical vapor deposition equipment.docxVIP

1绪论概述金属有机物化学气相沉积（MOCVD，Metal Organic Chemical Vapor Deposition）技 术是在 20 世纪 60 年代被研究出来的利用金属有机化合物和氢化物来生长外延的一种气 相外延新技术。这种技术主要以Ⅱ或者 III 族元素的金属有机化合物和 V 或者Ⅵ族元素 的氢化物为反应气体，通过感应加热或者电阻加热的方式在衬底上加热，在适当的温度 和压力下使两种气体发生化学反应来生成薄膜并在薄膜上掺杂不同的元素从而使得薄 膜具有不同的特性。MOCVD 技术具有下面一些显著的优点[1]：精确控制膜厚、生长薄膜面积大、重复 性好、可以实现规模量产等。MOCVD 设备的应用范围比较广泛， 第三代半导体材料 GaN 的外延生长、太阳能 电池、异质结双极晶体管、光探测器、激光器以及超细粉等半导体器件的制造与研究等 都可以通过 MOCVD 技术来完成。以 GaN 为代表的第三代半导体材料发展十分迅速，由于其优异的电学、光学和热学 特性，在高温大功率微电子器件、蓝绿和紫色发光器件、信息显示存储和读取等领域有 着广阔的应用前景[2]。GaN 的生长技术很多，包括氢化物气相外延（HVPE：Hydride Vapor Phase Epitaxy）、 气态源分子束外延（GSMBE：Gas Source Mgolecular Beam Epitaxy）和金属有机物化 合气相沉积（MOCVD：Metal Organic Chemical Vapor Deposition）[3]。但是至今， MOCVD 技术依然是应用的范围最广，工艺最成熟，获得 GaN 材料发光质量最好的外 延工艺。当前日新月异的半导体照明技术带动了 MOCVD 设备的发展，使得 MOCVD 设备具备良好的发展前景和广阔的市场需求。目前，国内已经有少数厂家生产和销售研究型的 MOCVD 设备，如青岛杰生电气有 限公司；但是还缺乏制造量产型 MOCVD 设备的厂商，国内的众多芯片厂商使用的 MOCVD 设备都是 AIXTRON 或者 VEECO 公司的产品，设备的缺乏严重制约了我国半 导体行业的发展。MOCVD 系统构成MOCVD 设备涉及流体力学、传热学、光学、控制工程、机械工程、真空物理等相 关领域，主要由下面几部分构成：反应腔体系统、气体输运系统、加热系统、冷却系统 以及控制系统等几部分[4]。图 1.1 MOCVD 系统构成1.2.1反应腔体系统反应腔体是整个 MOCVD 设备的关键部件，反应腔体的设计必须保证内部流体流态 为层流，源气分布均匀，减少源气的预反应并提高源气的利用效率，降低外延生长的成 本。反应腔体的结构根据气流和生长衬底的角度可分为卧式和立式两种，如图 1.2 和 1.3所示[5]。图 1.2 卧式反应腔体图 1.3 立式反应腔体在下文 1.3 国内外研究现状中将会详细介绍几种比较典型的反应腔体的原理和各自 的优缺点。1.2.2气体输运系统气体输运系统的主要功能是将反应气体输送到反应腔体进行反应，在 GaN 系列的 MOCVD 设备中，反应气体包括Ⅲ族源的金属有机化合物 TMGa、TMAl 和 TMIn，Ⅴ族 源的 NH3，P 型掺杂源 CP2Mg，N 型掺杂源 SiH4 以及载气和吹扫气体 H2 和 N2。MOCVD 设备对气体输运系统的要求有三点：气密性、快速切换和精确控制[6]。为了保证外延生 长的质量，H2、N2 和 NH3 都经过了气体纯化器进行纯化，纯度达到 9N。为了保证气体 的纯度和管路的气密性，气体输运系统的管道都用内壁经过电化学抛光的不锈钢管，接 头采用 swagelok 的 VCR 不锈钢垫片密封，使得整套系统的泄漏率﹤1.0310 -9atm·cc/s。 Ⅲ族源的金属有机化合物存放在不锈钢鼓泡瓶中，在工艺生长时，不锈钢鼓泡瓶放置在 温度控制精度达到 0.02°C 的水浴槽中，通过精确控制鼓泡瓶内的蒸汽压达到精确控制 其物质的量的目的。气体输运系统还包括一套吹扫气路、检漏管路以及尾气真空管路。吹扫气路用来保 证气管和反应腔体内各种零部件的清洁，包括喷淋、光学探头、整流罩和电极等。检漏 管路用来连接氦质谱检漏仪，检查管路的密封性能，保证管路的气密性达到要求。尾气 真空管路的功能是通过真空干泵的作用，将腔体的压力维持在工艺要求的水平，并对反 应产生的废气进行处理，使其达到排放标准。加热系统均匀的衬底温度是生长高质量外延的前提。如何保证温度分布均匀、快速的升温降 温速度、温度的动态平衡以及缩短温度的静态稳定时间是加热系统设计的关键。加热系统按照加热方式的不同可以分为红外辐射加热和感应加热，感应加热按照加热器结构的不同又分为电阻片加热和电阻丝加热。图 1.4 感应加热图 1.5 电阻丝加热图 1.6 电阻片加热