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光學投影機-1 光學儀器在精密量測上之應用 教授：范光照 簡 介 光學儀器應用於精密量測上相當多，光源包含一般光源和單色光源兩種。 一般光源：自動視準儀、光學投影機、工具顯微鏡、光學尺、測長儀、光學塊規比測儀、電子高度規、和光學分度頭等均用光學原理作為量測的基礎。 單色光源：光學平板、氦氖燈、雷射塊規比測儀、雷測準直儀、雷射掃瞄儀和干涉儀均利用單色光源的特性，以提昇精密度。 光學投影機 (Profile projector) 光學投影機又稱為輪廓投影儀或投影機。 係利用光學原理將工件之輪廓經各種透鏡及反射鏡投影，並放大成各種倍數後，先投影至半透明的投影幕上，再配合各種標準圖片，作非接觸式的量測。 早期系統 光學投影機 (Profile projector) 光學投影機 (Profile projector) 光學投影機的構造，可由三個不同量測系統而有不同的構造。 以垂直型投影機為例，投影透鏡可由5X至100X的放大。量測工件則可用輪廓照明或表面反射照明。 附件包括迴轉式裝物檯、分厘頭、顯示器、V型塊、中 心頂架、各種倍率之透鏡、投影幕、標準圖片、玻璃尺和照相設備等。 光學投影機 (Profile projector) 光學投影儀是應用放大作用，可做長度、角度、形狀、表面等檢驗工作。屬非接觸式、二次元量測，由器適合彈性、脆性材料之量測。除可利用照相、二次元座標處理機、數字顯示器、光眼讀取數據或自動尋邊器、印表機等週邊設備，並可用RS-232與電腦連線以達到迅速、確實及統計分析等優點。為對透明或半透明物體量測效果稍差。 數位投影機 影像系統：高解析彩色攝影機。 光學尺：X,Y,Z解析度1μ 。 XY軸線性精度：(4+L/200) μm 。 放大倍率：光學倍率0.7X ~ 4.5X(螢幕倍率28X~180X) 。 光源：AC 110V/220V 。 基座：高精度花崗岩平台。 Z軸基座：高精度花崗岩。 適合行業: 2D掃描、手機、電子PCB板、汽車零件等等。 光學系統 數位投影機 計算尺寸 工具顯微鏡 (Toolmakers′ microscopes) 工具顯微鏡又稱製造用顯微鏡。 利用光學原理將工件成像經物鏡投射至目鏡，藉由光線放大成虛像，以作為尺寸、角度、和形狀之量測。 可檢驗分金屬光澤之工件表面。 此種儀器在立柱上裝有一顯微鏡，放大倍率從10倍至100倍間等數種倍率。 工具顯微鏡 (Toolmakers′ microscopes) 工具顯微鏡之量測系統如右圖所示。 光源通電後，光線依次經過兩個透鏡濾熱鏡、鏡徑薄膜、透鏡、反射鏡、裝物台、物鏡、反射鏡、目鏡等。 工件與物鏡間的距離，隨著放大倍率和工件厚薄，可利用對焦旋鈕調至理想位置。 光學平板 (Optical flats) 光學平板又稱光學平鏡，它是應用光學干涉原理，以檢驗工件之真平度、平行度和尺寸大小。 光學平板應用及精確的單色光及迅速且易操作等特性，以從事精密量測工作。 將光投射在平板及待測工件表面等不同位置上，若待測表面不平時，不同途徑的反射光波將產生干涉，藉著對干涉條紋之判讀達到量測之目的。 干 涉 原 理 光源必定是直線前進且波長不變，這是光的基本特性。 如右上圖所示，兩光波出發時相位相同，其光波會重疊，振幅加大且亮度加強。 右下圖所示，兩光波出發時相位相差π∕2或180?，則兩光波相交後振幅會相抵。假使兩光波振幅相同，即產生完全干涉現象，形成暗帶。 干 涉 原 理 光學平板置於待測物體上方，光線照射至光學平板上，以不同間隙到達工作表面。 因受光密到光疏介質反射現象會產生180?之相位差。 光線在光學平板上的反射，與透過光學平板的光線在工件表面反射之間隙為1/4波長倍數時，則兩反射光線會成為亮帶，如果間隙為1/2波長倍數時，兩反射光線會成為暗帶。 干 涉 原 理 單色光源 市售單色光源多為氦氣燈，依量測大小可分L、C、U等三型 L型為實驗室專用 C型為一般用 U行為反觀工件表面 工件真平度之量測 - 1 工件真平度之量測 - 2 工件平行度之量測 - 1 工件平行度之量測 - 2 工件高度之量測 - 1 雷射(Laser)及其量測 高強度 高度方向性 空間同調性 窄帶寬 單色性 雷射準直儀 利用高方向性和高亮度性。 雷射傳送到足夠遠目標又幾乎不擴散的平行光。 雷射準直儀的應用 雷射干涉儀 目前常用於量測長度的干涉儀，主要以麥克森干涉儀為主。 以穩態氦氖雷射為光源，構成一具有干涉作用之量測系統。 雷射干涉測長技術 雷射光在經過一段距離之後仍會維持細小的光束，不像一般光源會散開，同時具有極高的亮度，以及穩定性與精確性良好的波長，再加上干涉現象容易觀測，這些特性使得雷射光成為工業上對