磁控溅射镀膜提高az91镁合金耐磨和耐腐蚀性能研究-study on improving wear resistance and corrosion resistance of az91 magnesium alloy by magnetron sputtering coating.docx

万方数据万方数据A thesis submitted to Shanghai Jiao Tong University for the Degree of Master of ScienceIMPROVE MAGNESIUM ALLOY AZ91 TECHNICAL CHARACTERISTICS BY USING MAGNETRON SPUTTERING COATING PROCESSCandidate Eva HUCHEDEStudent ID 1130509133Supervisor Professor Li ZhuGuo Academic degree applied for Master of engineering Specialty Materials departmentAffiliation School of Materials science and EngineeringDate of defense 7th of January 2015Degree-Conferring-Institution Shanghai Jiao Tong University34上海交通大学学位论文原创性声明本人郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下，独立进行研究工作所取得的 成果。除文中已经注明引用的内容外，本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写 过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。 本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。学位论文作者签名： 日期： 年 月 日56上海交通大学学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解学校有关保留、使用学位论文的规定，同意学校保留并向国家 有关部门或机构送交论文的复印件和电子版，允许论文被查阅和借阅。本人授权上海交 通大学可以将本学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、 缩印或扫描等复制手段保存和汇编本学位论文。保密□，在 年解密后适用本授权书。 本学位论文属于 不保密□。 （请在以上方框内打“√”） 学位论文作者签名： 指导教师签名：日期： 年 月 日 日期： 年 月 日78磁控溅射镀膜提高 AZ91 镁合金耐磨和耐腐蚀性能研究摘要在过去的几年中，镁及镁合金由于其显著的性能受到越来越多的关注。镁，作为最轻 的结构金属之一，密度为 1.74 g/cm3 ，并且无磁性及具有良好的导热和导电性。同时，镁 还具有优良的铸造性能和加工性能，成本低且易回收利用。然而，它也存在着一些不足之 处，在使用过程中易遭受腐蚀与磨损，这大大限制了镁及其合金的在许多领域的应用。因 此，为了克服这些缺点，许多学者正在研究镁合金表面改性技术。在这个过程中，他们需 要克服的一大难题就是镀层与基体的结合力。目前，PVD 技术受到了更多的重视。这项 技术无污染且不会产生废料，这是许多研究集中于这项技术尤其是磁控溅射的原因。基于 之前的研究，本文主要研究 Al/AlN/TiN 膜层的性能。主要分为 3 步来开展：1. 研究单层 Al 膜：设置了 6 组不同的偏压 20V、40V、60V、90V、120V 及 150V 来 研究偏压对镀层性能的影响。2. 研究 Al/AlN 膜层：设置了 4 组不同的 N2 流量 10sccm、 15sccm、35sccm 及40sccm 研究 N2 对镀层性能的影响。3. 研究 Al/AlN/TiN 膜层：设置了 3 组不同的过渡时间 0s、900s (15 分钟) 及 1800s (30分钟)研究过渡时间对镀层性能的影响。为了分析膜层，采用了 SEM、EDS 以及结合力测试。得到的结论如下：N2 流量为35sccm 过渡时间为 1800s 时制备的膜层硬度最高。当基体偏压为 60V 到 90V、 N2 流量为35sccm 到 40sccm 且无过渡时间时得到的膜层与基体的结合强度最高。此外，为了评价薄 膜层的性能，测试了镀膜样品的耐磨损性能、显微硬度以及耐腐蚀性能。得到的结论如下：N2 流量为 40sccm 过渡时间为 1800s 时制备的膜层耐磨损性能最佳；N2 流量为 35sccm 时 硬度较高；基体偏压为 60V、N2 流量为 35sccm 且无过渡时间时制备的膜层具有最佳的耐腐蚀性能。最佳的参数配置为：基体偏压=60V，N2 流量为=35sccm，无过渡时间。由于结合力 是最主要的问题，因此为了获得较佳的膜基结合力，将过渡时间选为 0。因此，沉积 Al/AlN 时，基体偏压设置为 60V；当沉积 Al/AlN/TiN 时，基体偏压设置为 60V，N2 流量 为 35sccm。关键词: AZ91 镁合金，磁控溅射，Al/AlN/TiN 膜层，结