65nm芯片设计和制造中的几个问题_翁寿松.pdfVIP

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  • 2018-08-28 发布于山西
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65nm芯片设计和制造中的几个问题_翁寿松.pdf

DOI:10.13250/j.cnki.wndz.2006.07.002 !#$%%’()$#*’ +%,*’% - .%’/#$$01 !#$% 芯片设计和制造中的几个问题 翁寿松 (无锡市罗特电子有限公司,江苏 无锡 !#$$! ) 摘要: 芯片的设计需要采用可制造性设计 ( )、多种分析方法和团队通力合作的精神; % ’( )*+ % ’( 芯片制造工艺需采用 ,- ’( 浸入式光刻技术、等效离子掺杂技术、原子层沉积技术、低 应力.+/ 工艺及无损伤清洗技术;% ’( 芯片制造设备需要全自动化和布局微型化等。 关键词:% ’( 芯片;设计;制造;设备 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) #:0 2 !-. !;0..- ’’- ’.;’(!);’0

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